凸轮机构基圆半径的确定方法及其分析

基圆半径的确定方法，除了用图解法和试算法外，还可用解析法和图解分析法求解。４种方法各有优缺点，设计时要根据具体情况选择。     

材料研究中系列试样的单标样法 X 射线定量分析

本文提出了用一个标样进行系列试样 X 射线定量相分析的方法.它克服了一般 X 射线定量方法需要混合研磨和手续烦复的缺点以及无标样 X 射线定量方法存在病态方程不易解决的问题.该方法对常规 X 射线定量分析具有普遍的实用性.     

用于高压电容器的SrTiO3基陶瓷

报道ＳｒＴｉＯ３基陶瓷的制备方法和介电性质，给出了用此种陶瓷制成的高压电容器的试验结果，并对它位进行了讨论。     

FE Simulation for Internal Inversion of Aluminium Alloy Tube

1 Introduction A double-walled invertube is difficult to fabricate other than applying inversion process. Such kind of invertube can be used as impact energy absorbing element in transport vehicles, like aircrafts and automobiles. Reddy T Y[1] did the analysis of Internal inversion and calculated the inversion load. Reid[2] et al. examined nosing and internal inversion of cold drawn steel tube by the finite element package ABAQUS. Recently, Rosa P A[3] et al. investigated Internal invers…     

知识驱动的UG中的产品开发

重点论述了UG中的KBE即KF模块的知识驱动产品开发设计过程及其关键技术，介绍了知识驱动自动化过程，实例剖析了UG中的KF在产品开发设计过程中的应用。     

浅谈水泥基渗透结晶型防水材料标准及性能指标

针对GB18445-2001《水泥基渗透结晶型防水材料》标准在使用过程中发现的一些问题，对标准中的部分性能指标的确定及试验方法提出修改意见。     

基于数字运算的PSD调理电路设计

介绍了基于数字运算的PSD调理电路思想及具体线路构造,该电路避免了模拟运算的缺陷,提高了精度和可靠性.     

Enhanced Image Detection on an ARM based Embedded System

This paper presents a new technique for thedetection of Integrated Circuits within images of Printed Circuit Boards autonomouslyand without the need to be assisted by CAD data. The technique is a key partof a suite of algorithms targeted for an embedded System On Chip architecturebased on the ARM7 platform for real time detection of PCB images for diagnosticpurposes. The technique has a significant reduction in complexity when comparedto conventional approaches such as the Hough Transform. The reduction in complexitymakes the approach ideal for an embedded vision application suchas the one described in this paper. This paper presents the technique, thetarget embedded architecture and results showing the reduction in complexitywhen compared to a Hough Transform.     

中频反应溅射SiO2膜与直流溅射ITO膜的在线联镀

多数ITO透明导电玻璃生产线在实现SiO2膜与ITO膜在线联镀时，应用SiO2靶射频溅射沉积SiO2膜工艺和ITO靶直流溅射沉积ITO膜工艺，如果SiO2膜应用硅靶反应磁控溅射工艺，存在这种工艺是否可以与ITO靶直流溅射沉积ITO膜工艺在线联用以及如何实现联用的问题。作者对现有的生产线进行了改造设计、加工，做了大量实验、质谱分析和多项测试研究，成功地实现反应溅射SiO2膜与ITO膜在线联镀，做到SiO2镀膜室的工作状态的变化基本上不影响ITO镀膜室的工艺条件。     

连铸温度场数值模拟及冷却水参数优化

由于用实验方法来研究工艺参数对铸坯温度场的影响较困难,故而提出了一种在冶金冷却条件指导下的启发式GA(遗传算法)数值模拟优化方法,为优化工艺参数提供了理论依据,并在优化基础上采用MIMO(多输入多输出)系统PID(比例积分微分)控制器实现了二冷段配水的优化控制,改善了铸坯的质量.