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991.
介绍了研制出其性能达国际先进公司同类产品水平的塑封双列直插式光耦合器的工作原理和提高绝缘耐压的技术难点,从引线框架设计、加工精度控制、内包封材料选型、理想内包封形状控制、塑封气密性的实现、环境条件的完善等方面讨论了提高绝缘耐压的设计和工艺要点。 相似文献
992.
993.
为了验证极限状态法在隧道衬砌设计中的可操作性,分别采用极限状态法和破损阶段法对铁路隧道衬砌进行了试设计,并对比分析了两种方法的试设计结果。研究结果表明:(1)当衬砌为素混凝土结构时,极限状态法的计算厚度均比破损阶段法计算厚度大,最大相差20 cm,需对极限状态法抗裂验算公式中的调整系数γd重新校核,校核后γd=1.55;(2)针对钢筋混凝土衬砌结构及明洞结构,极限状态法的设计结果与破损阶段法设计结果基本相同,钢筋混凝土结构的极限状态方程中相关分项系数及调整系数取值是合理的。(3)采用极限状态法(γd=1.55)与破损阶段法试设计工程投资相当,极限状态法较破损阶段法工程投资增加237万元,增加1%。 相似文献
994.
小区有线电视预埋管道的建设 总被引:2,自引:0,他引:2
分析小区有线电视管道建设的特点,介绍小区管道建设的工作原则以及设计、施工方法. 相似文献
995.
LIZhong XINHua-mei WANGQiang LIYu-guo LIHui-qi 《半导体光子学与技术》2004,10(1):38-40
Blue luminescence at about 431nm is obtained from epitaxial silicon after C^ implantation,annealing in hydrogen ambience and chemical etching sequentially. When annealed in nitrogen ambience and etched accordingly, there is a much narrower peak at about 430nm. During C^ implantation,C=O compounds are introduced into and embedded in the surface of nanometer Si formed during annealing,at last, nanometer silicon with embedded structure is formed,which contributes to the blue emission. 相似文献
996.
997.
998.
999.
1000.
温度变化对遥感器光机结构尺寸稳定性的影响 总被引:1,自引:2,他引:1
以某光学遥感器光机结构为例,用温度水平、轴向温差、径向温差及周向温差序列表示温度场.用主次镜相对各自理想位置的变化、方程参数的变化及面形质量的变化表示尺寸稳定性的变化.探讨不同形式的温度场变化与尺寸稳定性变化之间的关系。结果表明,不同形式的温度场变化对光机结构尺寸稳定性影响的灵敏程度不同。 相似文献