脉冲串信号分辨力问题分析

从模糊函数、距离分辨力、速度分辨力三个角度对均匀脉冲串与重复周期参差脉冲串信号的分辨力问题进行分析,结合仿真图得到两类信号的分辨力特性及差异。结论为,重复周期参差脉冲串信号相对于均匀脉冲串信号较好地改善了测距测速二维模糊,但增大了速度模糊旁瓣的宽度和平均幅度。最后根据信号模糊度图给出了两类信号在实际应用中提高分辨力的相关措施。     

光刻技术的现状和发展

着重从涂胶、曝光(包括光源和曝光方式等)、光刻胶和深度光刻等方面介绍了光刻技术的现状和未来的发展趋势.     

某政府会议室音视频系统设计与调试

某政府会议室是领导召开日常工作会议的重要场所,对音视频系统要求很高,尤其是该会议室数字会议发言单元很多,如何保证系统稳定可靠、不啸叫,每个与会者听得见、听得清,以及显示图像清晰、稳定,这就需要音视频系统具备稳定可靠的冗余结构和良好的传输频率特性、声场不均匀度、传声增益、语言传输指数和分辨率等高性能指标要求。主要阐述了该会议室音视系统的设计和调试技术,以及最终达到的良好效果。     

突发包分割机制研究与仿真

对现有的突发包分割机制进行了研究,提出了一种新复合突发封装方法。分析和仿真表明,与原复合封装方法相比,改进后的方法在不增加端到端延时的情况下,将进一步减少高优先级数据的丢失率,保证其服务质量。     

用二次离子质谱和扩展电阻探针技术测量硅中注入硼的深度分布及扩展电阻探针技术分辨率的估算

利用二次离子质谱和扩展电阻探针技术测量了硅中注入硼的深度分布 .在适当的测量深度 ,用扩展电阻探针技术测得的结果对二次离子质谱技术测量的结果进行了标定 ,从而得到硅片中硼原子的深度分布 .用近似模型估算了扩展电阻探针针尖半径对测试分辨率的影响 .若探针针尖半径为r0 ,测量斜面的角度为 ξ ,在用扩展电阻探针技术测量载流子浓度的深度分布时 ,可以近似认为深度分辨率为 7 86r0 sinξ.还定性讨论了样品表面耗尽层对扩展电阻探针技术的影响.     

全场低帧率光学微血管造影成像

针对传统激光多普勒成像空间分辨率不高的问题 ,根据动态散射信号和静态散射信号在频谱的不同 分布特性,提出一种全场低帧率光学血管造影成像技术。通过采用低帧率-短曝光的采 样模式获取散射 光信号,保证相机有足够的像素得到全场高空间分辨率图像;对粒子的时域信号进行傅立叶 变换,选取归 一化功率谱零阶矩为成像参量,实现了模拟血红细胞的浓度成像。对活体玻璃猫鱼成像实验 表明,微血管 脉络造影的空间分辨率达60μm,证明了本方法用于微血管造 影成像的可行性。与眼底照相机相结合, 其有望发展为一种实用的无需造影剂的眼底微血管造影成像技术。     

近场MVDR聚焦波束形成被动定位方法

该文系统地研究了最小方差信号无畸变响应（MVDR）聚焦波束形成方法的定位性能,特别是对该方法定位性能受某个参数的影响情况进行了较详细的研究。首先分析了近场情况下线列阵接收信号的模型,然后分别推导了常规聚焦波束形成和MVDR聚焦波束形成的定位原理。仿真比较了这两种定位方法的定位性能,以及MVDR聚焦波束形成被动定位方法在不同的阵元间距和不同的目标距离情况下的定位性能。仿真结果表明,与常规聚焦波束形成相比,MVDR近场聚焦波束形成在提高分辨率的同时,减小了＂混叠＂影响,具有更为平滑的背景和更低的旁瓣级,同时认为,为了得到比较好的定位效果,目标应处于相对于＂近场＂的位置,从而为目标精确定位提供依据。     

一种高分辨图像跟踪器硬件实现方案

介绍了一种应用于高分辨率数字图像(1280×1024像元)跟踪的高速并行硬件平台的技术方案,给出了高分辨图像跟踪器的平台构架,分析了实现该平台的关键技术,计算了该平台的主要性能指标,论证了系统软件和分配方案。     

厚壁管道周向压电Lamb波缺陷图像增强研究

为解决厚壁管道周向压电Lamb波缺陷检测中非平稳信号引起的低信噪比和分辨率问题,利用相位相干成像算法(PCI)从Lamb波信号中提取相位信息构建相位相干因子,通过动态加权处理放大相位分布对超声图像像素幅值的贡献。一方面,该方法保留相位分布一致的缺陷回波幅值,增强缺陷信噪比。另一方面,该方法能通过增强孔径波束指向性,提高后处理图像的虚拟聚焦效果及横向分辨力。通过对外径269 mm、壁厚32 mm的带有20 mm横向裂纹缺陷的厚壁管道进行了探伤检测,对得到的信号进行图像重建。结果表明,PCI的信噪比为25.2 dB,较原始B扫描图像提高了15.6 dB,半波高水平宽度由47.3 mm缩小到22.4 mm,提升了横向分辨率,提高了对缺陷的识别度。     

Development of Dual-light Path Monitoring System of Optical Thin-film Thickness

The accurate monitoring of optical thin-film thickness is a key technique for depositing optical thin-film. For existing coating equipments, which are low precision and automation level on monitoring thin-film thickness, a new photoelectric control and analysis system has been developed. In the new system, main techniques include a photoelectric system with dual-light path, a dual-lock-phase circuit system and a comprehensive digital processing-control-analysis system. The test results of new system show that the static and dynamic stabilities and the control precision of thin-fihn thickness are extremely increased. The standard deviation of thin-film thickness, which indicates the duplication of thin-film thick-ness monitoring, is equal to or less than 0.72%. The display resolution limit on reflectivity is 0.02%. In the system, the linearity of drift is very high, and the static drift ratio approaches zero.