工艺参数对马氏体不锈钢激光冲击区表面轮廓的影响

激光功率密度和搭接率对马氏体不锈钢的激光冲击区的表面轮廓有较大影响.激光功率密度从3.79 GW/cm2到7.25 GW/cm2,冲击区塑性变形程度随功率密度增大而增大,当激光功率密度为6.09 GW/cm2时,冲击区塑性变形程度适中,其残余应力平均值达-569.1 MPa.搭接率试验结果表明,搭接率为33%时,可获得较大面积无挤出的激光冲击区,无挤出区域的塑性均匀,变形深度波动幅度在2μm以内,而且此搭接率下冲击区挤出面积较小,分布具有规律,便于再次冲击以降低冲击区的表面波纹度.     

生物芯片扫描仪研究进展

简要介绍生物芯片的基本概念以及生物芯片检测装置的国内外发展动态;分别介绍了本文设计的CCD系统生物芯片检测仪和激光共聚焦生物芯片扫描仪的原理、结构、工作状况以及设备的技术参数。最后指出更高分辨率(小于1μm)的生物芯片扫描仪是该设备今后的发展趋势。     

湍流大气中光强闪烁对光通信链路的影响

给出了用大气传输通信设备进行传输距离 3.4 km外场试验光强闪烁对光通信链路影响的实验结果 ,并简要分析了光强闪烁对信号检测的影响和误码原因     

CO2激光诱导液相沉积银的机理研究

激光诱导液相沉积的机理可大致分为光电化学机理、热电化学机理和热分解机理等。通过试验及分析表明 ,CO2 激光诱导液相沉积银属于简单的热分解机理。CO2 激光起到局域热源的作用 ,在激光辐照过程中 ,光照区介质溶液及基体表面均发生了极其复杂的物理化学变化 ,最后诱导产生的银沉积在基体表面并部分扩散到了基体内部 ,成为后续化学镀铜的催化中心及过渡层     

Nb4Si含量对激光熔覆Ti-Fe合金涂层组织和性能的影响

采用激光熔覆技术,在TA15钛合金表面制备了具有不同Nb4Si添加量的Ti-Fe合金涂层。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、显微硬度计、纳米压痕仪和摩擦磨损试验机,系统研究了Nb4Si含量对合金涂层组织和性能的影响规律。研究结果表明,不同Nb4Si含量的Ti-Fe合金涂层皆主要是由β-TiNb树枝初晶和β-TiNb+TiFe共晶组织所构成。但有所不同的是,随着Nb4Si添加量的增加,涂层中共晶组织的数量呈现出先增后减的变化趋势,即在Nb4Si添加量为2.0%(粒子数分数,下同)时,共晶组织的数量为最多,且在Nb4Si的添加量超过0.5%时,涂层中开始有少量的β-(TiNb)5Si3相形成。由于受共晶组织增强作用的影响,在Nb4Si添加量为2.0%时,合金涂层的硬度、减磨性和耐磨性能为最高,而弹性模量为最低。     

激光二极管与单模保偏光纤的耦合分析

给出一种处理激光二极管经透镜与单模保偏光纤耦合的精确方法,讨论了透镜参数、耦合形式、激光二极管像散对耦合效率的影响,给出两种实际耦合系统的计算结果并与实验结果作了比较     

振镜结构对精度和速度的影响

从振镜的本体结构，使用材料和电容位置传感器三方面来讨论了对其精度和速度的影响     

Influence of the additives argon, O2, C4F8, H2, N2 and CO on plasma conditions and process results during the etch of SiCOH in CF4 plasma

Reactive ion etch processes for modern interlevel dielectrics become more and more complex, especially for further scaling of interconnect dimensions. The materials will be damaged within such processes with the result of an increase in their dielectric constants. The capability of selected additives to minimize the low-k sidewall damage during reactive ion etching (RIE) of SiCOH materials in fluorocarbon plasmas was shown in different works in the past. Most of the investigated additive gases alter the fluorine to carbon ratio as well as the dissociation of the parent gas inside the etch plasma. The result is a changed etch rate, a modified polymerization behavior and other characteristics of the process induced SiCOH damage. Heavy inert ions like argon will be accelerated to the sample surface in the cathode dark space and enhance therewith the sputter yield on the SiCOH network [1]. In this paper the additives Ar, O₂, C₄F₈, H₂, N₂ and CO were added to a conventional CF₄ etch plasma. We try to provoke different changes in the plasma conditions and therewith in the process results. Contact angle measurements, spectroscopic ellipsometry, Hg-probe analysis, FTIR measurements and SEM cross-sections were used to overview the additive induced modifications. To understand the influences of the additives gases more exactly, changes in the physical and chemical plasma behavior must be analyzed. Therefore quadrupole mass spectrometry (QMS) and quantum cascade laser absorption spectroscopy (QCLAS) were used.     

激光防治“古文物”锈蚀的实验研究

报导用激光处理青铜器等文物的实验，给出了防治青铜器生“粉状锈”的实验方法和结果，并对其机理作了分析。     

级联复合腔对光纤激光模式的抑制影响

提出了一种复合腔结构的稳定单纵模(SLM)掺铒光纤激光器,其复合腔结构由主环形有源腔和两个次级无源腔组成。在光纤环形镜中嵌入未抽运的掺铒光纤作为可饱和吸收体以抑制多纵模,用光纤环谐振腔作为滤波器抑制拍频噪声,用光纤光栅作为波长选择器件,最终得到了单纵模输出并消除了拍频噪声。在整个波长调节范围内边模抑制比大于50dB,当泵浦功率为80mW时,掺铒光纤激光器输出功率为20.51mW,激光器的输出很稳定,在25min的观察时间内,输出功率的变化小于0.02%,实现了稳定的激光功率输出。