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应用电化学加工和金属的弹塑性变形理论,通过对铜电极的加工工艺的研究,提出了一种新的测量肌纤维张力微电极的装置和加工方法,并经过实验确定了该方法的可行性和工艺参数。 相似文献
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紫外激光器及其在激光加工中的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
紫外激光的波长短,能量聚集集中,分辨率高,特别是具有"冷加工"的特性,能直接破坏连接物质的化学键,而不产生对外围的加热,因此成为加工脆弱物质的理想工具,并能对多种材料进行打孔、切割、烧蚀,在微加工领域中具有广泛的应用.简要介绍了几种紫外激光器的原理特点及其发展现状,并讨论了它在激光加工中的应用. 相似文献
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Various MEMS devices like Accelerometers, Resonators, RF- Filters, Micropumps, Microvalves, Microdispensers and Microthrusters are produced by removing the bulk of the substrate materials. Fabrications of such Microsystems requires the ability to engineer precise three-dimensional structures in the silicon substrate. Fabrication of MEMS faces multiple technological challenges before it can become a commercially viable technology. One key fabrication process required is the deep silicon etching for forming high aspect ratio structures. There is an increasing interest in the use of dry plasma etching for this application because of its anisotropic etching behavior, high etch speed, good uniformity and profile control, high aspect ratio capabilities without having any undesired secondary effects i.e. RIE lags, Loading, microloading, loosing of anisotropic nature of etching as aspect ratio increases, micro-grass and even etch stalling. Developing a DRIE micro-machining process requires a thorough understanding of all plasma parameters, which can affect a silicon etching process and their use to suppress the secondary effects. In this paper our intention is to investigate the influence of etching gas flow, etching gas pressure, passivation gas pressure, ICP coil power, Platen power and etch and passivation time sequence on etch rate and side wall profile. Parameter ramping is a powerful technique used to achieve the requirements of high aspect ratio microstructures (HARMS) for MEMS applications by having high etch rate with good profile/CD control. The results presented here can be used to rationally vary processing parameters in order to meet the microstructural requirements for a particular application. 相似文献
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以膜厚为250 μm的Al2O3膜为微结构基板、95#Al2O3瓷板为微壳结构体,设计并采用激光微加工技术制作了具有Φ0.2 mm微孔通道的微结构传感器.阐述了CuCl杂化修饰CuPc的工艺过程,并通过真空镀膜形成气敏膜.实现了主动吸气的检测模式,提高了响应时间和气敏性.通过SEM分析得到了良好的表面形貌和膜尺寸,用做电极和加热器Pt膜厚为500nm,敏感膜厚为150 nm,微壳深度为150~200μm.测试结果表明对Cl2具有较好的敏感响应,灵敏度为0.01%浓度下0.25倍,并呈现P型半导体的变化规律.研究了通气状态和加热电压对传感器响应和气敏性的影响. 相似文献
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