全文获取类型
收费全文 | 169篇 |
免费 | 20篇 |
国内免费 | 5篇 |
专业分类
电工技术 | 11篇 |
综合类 | 4篇 |
化学工业 | 32篇 |
金属工艺 | 21篇 |
机械仪表 | 22篇 |
建筑科学 | 6篇 |
矿业工程 | 2篇 |
轻工业 | 12篇 |
水利工程 | 2篇 |
石油天然气 | 13篇 |
无线电 | 7篇 |
一般工业技术 | 19篇 |
冶金工业 | 6篇 |
原子能技术 | 5篇 |
自动化技术 | 32篇 |
出版年
2024年 | 4篇 |
2023年 | 10篇 |
2022年 | 9篇 |
2021年 | 12篇 |
2020年 | 6篇 |
2019年 | 11篇 |
2018年 | 18篇 |
2017年 | 7篇 |
2016年 | 5篇 |
2015年 | 9篇 |
2014年 | 9篇 |
2013年 | 11篇 |
2012年 | 10篇 |
2011年 | 10篇 |
2010年 | 4篇 |
2009年 | 14篇 |
2008年 | 6篇 |
2007年 | 8篇 |
2006年 | 5篇 |
2005年 | 2篇 |
2004年 | 5篇 |
2003年 | 4篇 |
2002年 | 5篇 |
2001年 | 2篇 |
2000年 | 4篇 |
1999年 | 1篇 |
1995年 | 1篇 |
1994年 | 1篇 |
1993年 | 1篇 |
排序方式: 共有194条查询结果,搜索用时 0 毫秒
1.
硅外延片中的杂质控制 总被引:2,自引:0,他引:2
有5类掺杂源影响硅的外延片中的杂质分布。主掺杂质控制外延层的杂质浓度,决定外延层的电阻率。固态外扩散、气相自掺杂和系统自掺杂影响衬底界面附近的外延层杂质浓度的深度分布。该文介绍了此3类掺杂源的掺杂过程和抑制方法。金属杂质在外延层中对器件有害,防止沾污和使用吸杂技术能降低金属杂质在外延层中的浓度。 相似文献
2.
3.
火炮初速测量是火炮进行弹道准备中的一项重要内容,运用灰色理论探讨火炮初速预测问题,既有利于提高火炮射击精度的修正,又有利于进一步完善火炮初速测量雷达的使用操作和改进设计。针对火炮初速随机变化的特点,基于灰色理论中的GM(1,1)模型,构建火炮初速灰预测模型,确定预测结果精度检验方法。最后通过一应用实例验证该方法具有一定的合理性与实用性。 相似文献
4.
5.
面向服务的体系结构在ERP中的应用 总被引:3,自引:0,他引:3
在现有体系结构下,ERP软件的定制、与其它应用系统的集成、系统维护与升级十分困难。而具有粗粒度、松耦合、可重用的服务及服务标准化接口设计管理等特点的面向服务的体系架构恰巧可以弥补以上不足。本文提出了一种新的ERP系统框架设计方案,用面向服务的体系架构对现有的ERP体系结构进行了改造。 相似文献
6.
现有的自动化漏洞挖掘工具大多泛化能力较差,具有高误报率与漏报率。文章提出一种针对C类语言的多分类漏洞静态检测模型CSVDM。CSVDM运用代码相似性比对模块与通用漏洞分析框架模块从源码层面进行漏洞挖掘,代码相似性比对模块运用最长公共子序列(Longest Common Subsequence,LCS)算法与图神经网络对待检测源码与漏洞模板实施代码克隆与同源性检测,根据预设阈值生成漏洞相似度列表。通用漏洞分析框架模块对待检测源码进行上下文依赖的数据流与控制流分析,弥补了代码相似性比对模块在检测不是由代码克隆引起的漏洞时高假阴性的缺陷,生成漏洞分析列表。CSVDM综合漏洞相似度列表与漏洞分析列表,生成最终的漏洞检测报告。实验结果表明,CSVDM相较于Checkmarx等漏洞挖掘工具在评价指标方面有较大幅度提升。 相似文献
7.
8.
9.
10.
文一污水站减少污泥产生量的污水处理技术 总被引:5,自引:0,他引:5
为了减少文一污水站按现行工艺在高pH(8.0-8.5)下处理油田污水过程中产生的污泥量,开发了一种新的污水处理工艺,在室内实验条件下,用一种pH调节剂将污水pH控制在7.0-7.5,加入除铁剂,除铁增效剂各100mg/L,得到了最好的净水效果(滤膜系数MF>30),车原污水相比,净化水污泥产生量由10.8g/L降至-1g/L,50℃,15d静态腐蚀速率为0.0089-0.0110mm/a,平均0.0097mm/a,SRB菌数为0,TGB菌数0-10^1个/mL,与地层水完全配伍;矿化度和主要成垢离子浓度有所降低。在文一污进行了为期47d的现场试验,结果表明:(1)在pH6.8-7.2,除铁剂和增剂剂加量分别为150,130mg/L时,净水效果最好,外输入MF>28,SS 5mg/L,含油2mg/L,(2)pH增大时污泥产生量增大,处理后水水质变差;(3)pH6.8-7.2除铁剂130mg/L,增效剂100mg/L为最佳净水条件,外输水MF>20;(4)净化水腐蚀性符合水质指标,主要腐蚀因素是二次沉降罐曝氧,加入Na2SO3可降低溶解氧含量,但引起水质下降;(5)试验期间污泥量减少1/2-1/3。(6)处理后水水质波动主要是水量波动引起的。 相似文献