排序方式: 共有4条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1
1.
采用射频磁控溅射在基片Si(100)和Fe3O4(20nm)/Si(100)上制备了钴铁氧体(CoFe2O4)薄膜,制备的薄膜在空气气氛中进行300~1000℃的退火处理,采用XRD、VSM分析了薄膜的微结构以及磁性能。结果表明,制备的钴铁氧体薄膜均具有尖晶石结构,Fe3O4缓冲层薄膜促进了钴铁氧体薄膜的结晶,但降低了钴铁氧体薄膜的垂直各向异性和垂直于膜面方向的矫顽力,而钴铁氧体薄膜的磁化强度和矩形度得到了一定的提高。 相似文献
2.
3.
4.
1