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本文采用最小二乘法进行曲线拟合的技术,推导出拟合直线的计算公式。该公式通过编程软件应用于电子束制版自动对准工作中,它对提高对准用各校正量的计算精度起了关键作用,进而提高了圆形电子束曝光机的制版精度。对于通过离散点需要拟合成直线的场合,该算法具有普遍的意义。 相似文献
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在用电子束曝光系统制造大规模集成电路工艺中,电子束场的线性与非线性畸变对曝光系统的对准精度有着很大影响。本文介绍的计算机软件是专为校正电子束场的线性畸变而设计的。文中叙述了电子束自动对准的必要性、对准原理、数学公式及程序的特点。实验结果表明,本程序设计原理正确,为今后用电子束曝光系统制版实现自动对准提供了理论依据。 相似文献
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刘敬延 《电子工业专用设备》1990,(3):17-22
本文仅对公开发表的IBM研究中心的VS_1定位系统、IBM分公司的EL_1定位系统、Bell实验室的EBES定位系统和日本的电子束定位系统进行简略综述、比较,可供搞半导体设备的同志参考。 相似文献
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