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专业分类
电工技术
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2001年
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1
1.
曝光量对介质阻挡放电照相的影响
总被引:1,自引:0,他引:1
翁明
陈启升
吴日赐
《高压电器》
2001,37(1):14-16
本文叙述了介质阻挡放电照相技术的基本原理 ,给出了自制的实验装置 ,并研究了不同曝光时间、不同放电回路电阻对照相质量的影响。在此基础上 ,提出在采用高压纳秒脉冲放电技术的前提下 ,综合控制曝光时间和放电回路电阻 ,是获得良好质量介质阻挡放电像的又一关键
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