从软磁盘电磁性能分析工艺因素的影响

软磁盘广泛应用於记录数字信息,是计算机,办公机器信息交换必不可少的记录媒体.软磁盘是在柔性片基(聚酯薄膜)上采用涂布工艺将磁浆涂敷於上,然后再经后工序(冲片、抛光、封装和检测)处理而制成的。要保证产品质量,每道工序都应严格控制,但从最终成品的检验分析亦可推断出前工序存在的问题。本文的目的就是从软磁盘电磁性能测试结果出发,分析讨论制造过程中工艺因素的一些影响。     

烧结Mn_(0.70)Zn_(0.23)Fe_(2.07)O_4的穆斯堡尔研究

对自制的低功耗Mn-Zn铁氧体样品,用穆斯堡尔谱研究了其结构和预烧过程中的相变情况,得出以下结论:(1)高温烧结样品是含过量铁的Mn-Zn铁氧体,有较典型的穆斯堡尔参数,其分子式可写为Mn_(0.70),Zn_(。.23)Fe_(2.07)O_4;(2)在预烧过程中出现的双线子谱面积随相变进程有特征变化,可作为相变进程的标识;(3)在预烧温度1040℃下,已初步达到形成Mn-Zn铁氧体的相变前期;(4)预烧过程中升温中断或在较低温度下反复预烧不利于正常相变;(5)原料Fe_2O_3穆斯堡尔参数比较特殊,对预烧样品谱有明显影响,但对高温烧结样品影响不显著。     

磁记录材料介质及器件的现状和发展趋势（一）

磁记录技术的发展方向是不断提高记录密度,改善记录特性。几十年来,人们经过不懈的努力已经取得了极大的进展。以数字磁记录为例,1954年IBM350磁盘机的记录密度为100bpi、20tpi(2000b/in~2),到1987～1988年,IBM3380K 磁盘机的记录密     

磁记录材料介质及器件的现状和发展趋势(二)

四,磁记录材料越来越高的记录密度要求在最短的记录波长下具有高 S/N 的记录介质。磁粉的选择对S/N的要求是一个主要因素。磁粉的矫顽力、磁化强度、粒度对S/N都有较大影响     

软磁盘的最新发展

<正> 软磁盘是由衬底(聚酯薄膜)和磁记录介质构成的数字记录媒体,它基于磁带工艺,结合计算技术的需要,首先由美国IBM公司研制成功(1967年,1594bpi,32tpi),于1971年正式宣布用于计算机系统作数据站(3268bpi,48tpi)。因为它价格低、体积小,重量轻、随机存取、