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化学机械抛光技术几乎是迄今唯一可以提供全局平面化的表面精加工技术,可广泛用于集成电路芯片、计算机硬磁盘、微型机械系统(MEMS)、光学玻璃等表面的平整化。本文综述了CMP的技术原理和CMP设备及消耗品的研究现状,指出了CMP急待解决的技术和理论问题,并对其发展方向进行了展望。 相似文献
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基于Acrel-5000的大型公共建筑能耗监测系统设计与应用 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了一种新型能耗监测系统的设计、系统构成以及系统的功能,Acrel-5000组态软件可以实现对现场设备的系统集成,数据的采集、传输以及存储,从而实现对大型公共建筑的分类、分项能耗计量功能。并以实例验证了该系统的功能与实用性。 相似文献
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恒温箱有着广泛的应用,其关键技术为保持箱内温度的恒定,本文采用AT89C52单片机和DS18820数字温度传感器测量恒温箱的温度,并和设定温度比较。根据比较的结果控制加热电阻和电风扇的动作与否,从而达到控制温度恒定的目的。 相似文献
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基于状态空间法的结构动力学建模与简化算法 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍一种利用模态变换和状态空间理论求解多自由度系统动力学特性和动态响应的方法。该方法可以通过多个单自由度系统模态叠加得出系统的总体频率及时域响应,并可以排序各阶模态对总体响应的相对重要性;通过对各阶模态进行排序,忽略一些不太重要的模态,以对模型进行降阶处理获得简化模型。以简单的悬臂梁模型为例介绍了如何利用有限元模态分析求解模型的特征值和特征向量并建立状态空间模型,并对结构动态响应进行简化计算分析的过程。数值结果表明:该悬臂梁的降阶简化模型和全模型的结果非常接近,验证了该方法在简化计算分析过程的同时可以保证分析的准确性。 相似文献
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化学机械抛光技术研究现状与展望 总被引:1,自引:0,他引:1
化学机械抛光技术几乎是迄今唯一可以提供全局平面化的表面精加工技术,可广泛用于集成电路芯片、计算机硬磁盘、微型机械系统(MEMS)、光学玻璃等表面的平整化.本文综述了CMP的技术原理和CMP设备及消耗品的研究现状,指出了CMP急待解决的技术和理论问题,并对其发展方向进行了展望. 相似文献
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