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专业分类
电工技术
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1995年
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1.
真空电弧镀膜中等离子体参数的实验研究
总被引:1,自引:0,他引:1
王浩
韦伦布
邹积岩
程札椿
《电工技术学报》
1995,(1)
本文运用Lansmuir静电探针技术,对真空电弧镀膜过程中,基片鞘层附近区域的电子能量电子密度值及其受基片偏压影响而改变的关系进行了实验测量。结果表明,在环境压力为5.32Pa电弧电流为75A,进行钛金属薄膜沉积时,等离子体参数的特征值表征为电子能量值1~5eV.电子密度值1011cm-3左右;且随着基片偏压值的增大,电子能量有缓慢的增加,而电子密度则显著下降。最后,对测量结果进行了分析与讨论。
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