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对磁控溅射PZT铁电多层薄膜进行了分析。结果表明:通过多层薄膜合理的设计和厚度控制,可以改善薄膜进一步的器件应用提供了可能性。通过研究发现,制备多层较理想的溅射条件是衬底温度T=650℃,薄膜子层厚度约为300nm,衬底则以MgO(100)单晶、Si2(100)单晶为佳。结构分析的结果显示出:PZT以铁电膜中的晶粒排列整齐,颗粒大小均匀,基本上和衬底成定向织构,膜的角度对多层膜的绝缘性能影响不大, 相似文献
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光电薄膜器件的膜厚是一个重要性能参数,通常用干涉仪和椭圆偏振仪测量,但它受到了光波波长和透明度的限制。根据电子光学原理,应用现代X光能谱技术,在MonteCsrlo电子轨迹法推导的数学模型和函数的基 相似文献
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<正> 图1所示零件采用拉、胀球形中间毛坯,减少拉伸次数,取得了良好的效果。1 工艺方案的确定 图1所示零件为宽凸缘偏心拉伸件,材料08F,厚1.2mm,拉伸部与工件圆心的偏心距35mm,属于偏心宽凸缘阶梯圆筒件。 根据计算并考虑到修边余量,取实际毛 相似文献
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