排序方式: 共有20条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1.
1IntroductionTheYBCOsuperconductorreactsveryeasilywithmoistureandcarbondioxideintheairtoformalkali.Thisreducesthesupercondu... 相似文献
2.
3.
磁控溅射镀钽及其镀层性能的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
利用直流磁控溅射法,在铝基片、玻璃基片上制备了钽膜。研究了氩气压力、阴极电流、系统本底真空度、溅射时间等工艺条件对钽膜性能及厚度的影响,并对钽膜的物理性能及电学性能进行了研究。结果表明,钽镀层的厚度主要与钽靶功率、氩气分压及溅射时间有关;当氩气压力、电流一定时,钽镀层的厚度与溅射时间近似地成正比关系:利用3A/(8min)、4A/(6min)、5A/(3min)各5片铝基片镀钽的样品制成了医用CT检测器信号接受盒,获得的X—ray电信号分别为30万、32万、34万单位,达到并超过了国际同类产品的技术指标。 相似文献
4.
以镍和高硬度微粒的复合沉积电镀层作为中间层,然后对中间层进行镀铬。电沉积后的材料表面凹坑呈随机分布,峰值密度很高,保持性、再现性优异,不受轧辊材质、硬度影响。试验结果表明:复合电沉积工艺中,镀液温度对试验结果的影响最大,电流密度对试验结果的影响次之。电流密度为5 A/dm2、镀液温度为50℃、镀液的pH值为4.8时,可以获得较大粗糙度。粗糙度Ra的范围为1.95~6.98μm。从电子扫描显微照片上可以看出,电镀微粒分布均匀。电沉积铬以后粗糙度主要集中在2~4μm,金属表面在镀铬后表面具有较好的硬度和比较理想的粗糙度。 相似文献
5.
6.
The intermediate layer was prepared by nickel doped with WC particles electroplating.The parameters,including current density and temperature,were studied.The measured methods,which consisted of surface roughometer and SEM,were used to character the roughness and micrograph.Based on the results,it was shown that the optimized parameters of the composite were as follows,temperature 65 ℃,current density 5 A/dm2 and pH 6.5.In the range of optimized parameters,the roughness Ra was from 4.5 to 6.7 μm.From the SEM micrograph,the particles on the surface were well distributed.The nickel content,which affected the binding force,was determined by the electroplating time. 相似文献
7.
8.
9.
使用X射线光电子能谱(XPS)分析方法,对镀锡铬酸盐钝化钢板中铬元素的含量、价态以及不同价态化合物的含量进行了研究,并对镀锡钢板铬酸盐钝化膜的形成机理进行了探讨。结果表明,钝化膜中主要含有Cr,O以及Sn元素。在给定的钝化处理工艺条件下,镀锡铬酸盐钝化钢板中铬元素主要是以Cr(OH)3,Cr单质以及Cr2O3的形态存在,在检测中没有发现六价铬离子。铬酸盐钝化膜中Cr,Cr2O3和Cr(OH)3的质量分数分别是2.0%,9.5%,7.5%。 相似文献
10.