Zn-Ni合金共沉积影响机理的拉曼光谱研究

首次利用现场表面增强拉曼光谱研究了Zn-Ni合金共沉积的机理。通过研究Ni电极在NiCl2溶液与纯水中的拉曼光谱、Ni电极与Au电极在KCl溶液中的拉曼光谱以及这2种电极在NiCl2溶液中现场电沉积的拉曼光谱,并根据前人提出的理论,得出如下结论:Zn-Ni合金共沉积中存在着较易在电极表面放电的NiClad,使Ni沉积的过电位降低,促进了Ni的沉积,导致Zn的异常共沉积。     

用临界钝化电流法和液晶法检测金属氧化物膜的缺陷率

用临界钝化电流法和液晶法，研究了不锈钢上Ｔａ２Ｏ５，ＺｒＯ２的高频溅射膜的缺陷率，建立了ＣＰＣＤ法中与薄膜有关的电流密度Ｉｆ与膜厚ｄ之间的关系式：Ｉｆ＝ｋ（１－θ）＾ｄ，利用液晶的动态散射模型建立了动态无损伤检测膜缺陷率的新方法，并证明了这两种方法的检测结果有良好的直线关系。     

防锈油膜在5% Na2SO4溶液中的半导体导电行为

采用电位—电容法及Mott-Schottky分析技术研究了自腐蚀电位条件下防锈油膜在5% Na2SO4溶液中失效过程的导电机制转变行为.防锈油膜在5% Na2SO4溶液中的失效过程存在半导体导电特征，随着浸泡时间的延长，防锈油膜从浸泡初期的p型半导体转变为n型半导体，转变过程中，防锈油膜中出现两个空间电荷过渡层.随着浸泡时间的延长，防锈油膜中的空间电荷层厚度皆逐渐减小，载流子密度则逐渐增加，并且计算了不同转变时期防锈油膜中的电子给体（ND）和电子受体（NA）密度大小.     

添加剂对Cu/Co多层膜电结晶成核机理及磁性的影响

在硼酸镀液中以单晶S i(111)为基底用双槽法制备Cu/Co多层膜,在镀液中分别加入了镀铜添加剂2000#和镀钴添加剂5#。探讨了镀层电结晶成核机理,在基础镀液中铜电结晶为三维连续成核过程,钴电结晶在较低电位下为三维连续成核,在较高电位下为三维瞬时成核过程。加入添加剂后,铜、钴电结晶均为三维瞬时成核过程。测试了Cu/Co多层膜的磁性能;添加剂能提高多层膜的磁性能,无添加剂的Cu/Co多层膜的巨磁阻(GMR)值约为5%,而在加入了添加剂后,其GMR值高达52%。     

流动槽滴入法电结晶制备铜钴纳米多层膜

在硼酸镀液体系中采用流动槽滴入法电结晶制得Cu/Co纳米多层膜,通过循环伏安法确定Cu、Co电结晶电位,分别为-0.55V和-1.05V(vs.SCE),通过X射线衍射技术(XRD)和X射线荧光光谱法(XRF)对Cu/Co纳米多层膜的结构、成份进行了分析.并用物性测量系统PPMS测试了Cu/Co多层膜的磁性能,结果表明:电结晶制备的Cu/Co多层膜的矫顽力比较小,仅为34 Oe,适合作巨磁阻磁头材料,其磁电阻随磁场强度的增大而减小,且约在3000 Oe时磁电阻趋于饱和,此时的巨磁阻效应GMR值达到了14%.     

采用丝束电极研究金属镍的快速电沉积行为

采用丝束电极(铜质和铁质)研究了金属镍的快速电沉积行为。研究表明，丝束电极表面存在腐蚀电位分布的不均匀性，经电沉积处理的丝束电极表面，也存在腐蚀电位分布的不均匀性。探讨了不同材质的丝束电极和不同镀液对金属镍的快速电沉积行为的影响。     

用磷钼酸喹啉重量法测定化学镀Ni-P镀层中的磷含量

介绍了磷钼酸喹啉重量法在化学镀镍磷镀层磷含量测定中的应用,并与GB/T 13913-92分光光度法和X射线能谱(EDS)法进行了比较.结果表明,本方法测定相对误差为-1.65%～4.21%,能准确测定镍磷镀层磷含量;与EDS法对Ni-P镀层的对比测定表明,EDS法所测结果比重量法普遍偏高.     

Co在Pt（111）面上电结晶的STM及REM研究

采用０．０５ｍｏｌ／Ｌ Ｈ３ＢＯ３＋０．０１ｍｏｌ／Ｌ ＣｏＳＯ４溶液,在Ｐｔ（１１１）面上获得了电结晶Ｃｏ利用电化学扫描隧道显微镜（ＥＣＳＴＭ）及反射电子显微镜（ＲＥＭ）,观察了不同过电位时Ｃｏ的成膜过程,证实了Ｃｏ在Ｐｔ（１１１）面上的电结晶均为三维岛状生长方式。     

3-氨基-1,2,4-三氮唑自组装膜对Cu-Ni合金缓蚀作用及吸附机理研究

利用3-氨基-1,2,4-三氮唑(ATA)金属处理剂在Cu-Ni合金表面制备了自组装单分子膜(SAMs),用电化学方法研究ATA SAMs对Cu-Ni合金的缓蚀作用及其吸附行为.结果表明, ATA分子易在Cu-Ni合金表面形成稳定的ATA SAMs,抑制了Cu-Ni合金的阳极氧化过程,改变了电极表面双电层结构,使零电荷电位正移,固/液界面双电层电容明显降低,有良好的缓蚀效果,这与交流阻抗和极化曲线得到的结论一致.同时研究表明ATA的吸附行为符合Langmuir吸附等温式,吸附机理是典型的化学吸附.     

流动式单电解槽电结晶制[Co/Pt]n(n≥200)金属多层膜的研究

采用电化学结晶的方法，在硼酸系流动式单电解槽中成功制得[Co／Pt]200多层膜。通过低角度X射线衍射(LXRD)证实了多层膜结构的存在．中角度X射线衍射(MXRD)则证明了Co—Pt界面上有CoPt3化合物的存在．首次确认了用电结晶法所得的[Co／Pt]n多层膜中存在CoPt3化合物的事实。