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1.
本文从理论上推出非均匀扇形磁场的四阶轨迹方程,通过符号运算和逻辑推理计算机自动设立待定解推出四阶的G-S关系,手工反解出四阶的S-G规则,本文结果为进一步计算出四阶离子轨迹及其斜率奠定了基础。  相似文献   
2.
膜层生长不均匀是制备SiGe异质结的研究热点。采用射频磁控溅射方法,通过不断改变溅射时的实验参数,寻找能使Ge纳米薄膜在Si基片上均匀生长的溅射实验条件。实验中,在不同时间条件下分别制备了三种纳米Ge薄膜,通过原子力显微镜对其微观形貌的分析扫描,可以观察到纳米薄膜生长过程中的四个典型阶段,发现Ge/Si的共度生长取得了较好的结果,为SiGe异质结的进一步制备研究奠定了一定的实验基础。  相似文献   
3.
本文研究了一个位于高QKerr介质腔中初始时处于基态的级联三能级原子与双筷SU(1,1)相干态场相互作用系统中,Kerr效应对原子动力学行为和光场性质的影响.结果表明:随着Kerr效应增强,拉比振荡的回复周期缩短,双筷光场的压缩量总是减小,两模间的关联程度减弱,但非经典相关程度则存在增强的情形。  相似文献   
4.
利用CCD测量单缝衍射光强分布   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用一种新型半导体集成光电器件,即CCD(Charge Couple Devices)电荷耦合器件,并通过CCD专用接口卡来直接测量单缝衍射光强分布,实现测试数据自动采集和实验结果自动输出。叙述了线阵CCD测量光强度的原理,分析了系统的软、硬件设计及测试结果。  相似文献   
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