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欧毅 《成都电子机械高等专科学校学报》2010,(1)
尤金·奥尼尔的信件中包含他许多的创作思想,特别是其在改变美国戏剧落后状况的过程中,对悲剧重新予以现代的定义,一直为国内评论者所忽视。本文将探索其信件中包含的丰富而独特的悲剧观。 相似文献
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非制冷红外成像技术已广泛应用于军事和民用领域,一直是人们关注的焦点之一,其核心部件是非制冷红外焦平面阵列(IRFPA:Infrared Focal Plane Array)。综述了几种具有代表性的非制冷IRFPA的探测原理、发展历史和现状。它们是:热敏电阻型、热释电型、热电堆型、二极管型、热-电容型非制冷IRFPA和应用光力学效应的非制冷IRFPA、基于法布里-珀罗微腔阵列的非制冷IRFPA。 相似文献
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随着我国互联网技术的发展,互联网中的各种通信技术也在逐渐增多。虽然网络通信基础正在不断更新,但是其中仍然存在一些问题,需要互联网通信的技术人员进行合理的改进与完善。除此之外,对于互联网通信的安全性能问题,也是技术人员研究的重点,在不断扩大的互联网通信中,其IP业务也在不断地强化,通信的基础设施正在向更加智能的方向发展,而对于互联网通信安全性能的要求也随之增高。影响互联网安全性能的因素有很多,对互联网通信的安全系统进行合理有效的分析也是互联网通信基础的重要环节。文章针对互联网通信基础的改进及其安全性进行深入的分析与探讨。 相似文献
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非制冷红外FPA结构设计及物理特性有限元模拟 总被引:1,自引:0,他引:1
提出了一种薄膜式镂空双材料单层膜微悬臂梁结构的非制冷红外焦平面成像阵列(FPA,FocalPlateArray)。通过测量热膨胀系数相差较大的两种材料构成的悬臂梁受到红外辐射后的热形变分布,得到红外源的温度分布,从而实现在基于光力效应的光学读出系统中成像的目的。利用解析法建立了单层膜悬臂梁结构的热机械模型,用有限元软件对其优化参数下的热学性能和耦合特性进行了有限元的计算机模拟与分析。模拟热机械灵敏度结果为2.49×10-4deg/K,与热机械模型预测结果基本一致,为FPA的结构设计提供了有效的参数依据。 相似文献
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基于7阶SIR交指结构滤波器,提出了一种基于硅MEMS技术的微波S波段交指带通滤波器。不仅保留了交指结构的高通带选择性,而且可以通过调整SIR的阻抗比和电长度比来实现宽阻带。采用MEMS工艺,在双层高电阻率的硅片上完成了滤波器的制作和自封装,它具有体积小、损耗低的优点。仿真结果表明,该滤波器在中心频率2.35 GHz处的相对带宽为30%,带内插损小于1.5 dB,回波损耗大于15 dB,在频率f0±0.8 GHz处的阻带抑制比大于50 dB。该交指带通滤波器的体积仅为(11×7×0.8)mm3。 相似文献
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悬臂梁微尖端器件的制备与应用研究进展 总被引:1,自引:1,他引:0
随着扫描隧道显微镜(SPM)家族的成熟,悬臂梁微尖端MEMS器件的广泛应用前景也逐渐清晰.对悬臂梁微尖端MEMS器件的种类、微尖端制作方法以及现今的研究应用方向进行了论述,最后指出了悬臂梁微尖端MEMS器件向着大规模阵列化发展的方向. 相似文献
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正A simple method has been developed for the fabrication of a silicon microlens array with a 100%fill factor and a smooth configuration.The microlens array is fabricated by using the processes of photoresist(SU8- 2005) spin coating,thermal reflow,thermal treatment and reactive ion etching(RIE).First,a photoresist microlens array on a single-polished silicon substrate is fabricated by both thermal reflow and thermal treatment technologies. A typical microlens has a square bottom with size of 25μm,and the distance between every two adjacent microlenses is 5μm.Secondly,the photoresist microlens array is transferred to the silicon substrate by RIE to fabricate the silicon microlens array.Experimental results reveal that the silicon microlens array could be formed by adjusting the quantities of the reactive ion gases of SF_6 and O_2 to proper values.In this paper,the quantities of SF_6 and O_2 are 60 sccm and 50 sccm,respectively,the corresponding etch ratio of the photoresist and the silicon substrate is 1 to 1.44.The bottom size and height of a typical silicon microlens are 30.1μm and 3μm,respectively. The focal lengths of the microlenses ranged from 15.4 to 16.6μm. 相似文献