具有氧化硅、氮化硅抛光速率选择比的化学机械抛光液

化学机械抛光工艺,就是使用一种含磨料的混合物和抛光垫抛光集成电路表面。在浅沟槽隔离层抛光工艺中,要求较高的氧化物介电质去除速率和较低的表面缺陷。本文主要研究针对如何提高氧化硅和氮化硅抛光速率选择比的专利申请,分析了实现上述目标主要采用的路径和效果,并通过对比,为相关领域的研发主体在拓宽技术研究思路、制定专利申请策略、构建专利保护体系方面提供参考信息。     

珠光颜料全球专利申请发展脉络分析

珠光颜料广泛应用于装璜及汽车涂料、涂料印花、化妆品、塑料、食品等领域。从珠光颜料近年来的市场规模、专利申请量变化、相关专利分类号、重要申请人、核心专利等多个角度对珠光颜料的专利申请进行分析,简单介绍了珠光颜料的技术演进路线,为国内珠光颜料的发展提供了一个方向,同时,对国内生产商今后进行专利申请布局提供了思路。