CW环形染料激光器不稳定性的研究

本文介绍了研究连续波环形染料激光器不稳定性的实验结果。当激励功率足够强时,激光器的工作状态会出现一组阈值,在每一阈值处激光功率发生跳变并伴之激光频率的不连续变化,此时激光器从单频工作转变到双频工作。 这一实验观察结果证实了理论预言;均匀加宽环形激光器在远大于阈值工作时所表现出来的不稳定性是均匀加宽激光介质的本征特性。     

激光化学气相沉积无定形硅

用激光化学气相沉积方法得到了无定形硅薄膜。用干涉仪测得薄膜厚度为微米量级,沉积速率为100(?)/min,用扫描电镜测出无定形硅颗粒平均线度为40～50(?),用激光拉曼光谱仪测出其拉曼频移为480cm~(-1)实验得到了沉积速率随气体峰值温度变化曲线,认为沉积速率受限步骤是硅烷的气相反应,求出反应活化能为192.6kJ/mol。     

环形染料激光器不稳定性的实验研究

用环形染料激光器观察并记录了腔内激光功率和激光频率随泵浦功率的变化。激光器在第一次达到阈值并建立激光振荡后,随着泵浦功率的增加先后出现第二、第三个阈值,激光功率出现两次不连续突变;同时激光器两次出现由单频工作到双频工作的跃变。     

彩色纺织物提花纹制光电分色自动扫描系统中的数据采集和处理系统设计

彩色纺织物提花纹制工艺的自动化一直是国内外十分注重研究的问题,但是在传统的工艺在计算机应用以前,没有实破性的进展。最近几年由于计算机及图像处理技术的发展,加上超高速模/数转模技术的配套,     

激光增强电镀铜的实验研究

简要叙述了激光增强电镀的机理并介绍了激光有极电镀铜的实验装置。实验中采用CuSO_4水溶液为电解液,使用预先镀有镍薄膜的玻璃基片作为阴极、铂片作为阳极。两电极间施加2V左右的直流电压。当功率为1W的氩离子激光束经光学系统会聚后穿过电解液聚焦在阴极上时,实验获得了直径约为几十微米、厚度为几微米的金属铜镀点。镀层沉积速率为0.1～1μm/s。测量表明由于激光引起的电镀增强率高达10~3以上。     

激光化学气相沉积无定形硅的研究

用激光化学气相沉积方法在微晶玻璃基片上沉积出了无定形硅薄膜。用乌氏干涉仪测得薄膜厚度为微米量级,沉积速率为100埃/分;用扫描电镜拍摄了膜层的形貌照片,测得其线度为40～50埃;用喇曼光谱仪测出其喇曼频移为480cm~(-1),与无定形硅的特征喇曼频移一致。     

激光在集成电路加工工艺上的应用

<正> 在当前集成电路加工工艺的最新研究中,激光加工是一项引人注目的新技术。发展集成电路工艺的目标是在较低的工作溫度下得到较浅的结深度和较高的工作速度,並增加其组装密度以实现三维集成。用激光来进行加工是达到这些目标的关键所在,目前美、日、德及世界各国都在开展这方面的研究。可以预言:由于激光加工所引起的设计革命和装备革新将会对大规模集成电路技术产生重大影响. 目前激光加工已在以下几个方面开展研究:     

激光光谱学的新领域—双光子光谱学

本文首先叙述了双光子光谱学的最新发展和基本理论,然后讨论了它的实验方法並对其实验结果作了分析。研究表明:如果原子在双光子跃迁中从两束反向传布的光束中各吸收一个光子就可以减少或消除多普勒加宽的影响,从而使分辨率提高到10~(10)-11~(11)。这一分辨率要比常规光谱学的多普勒极限提高大约五个数量级。利用无多普勒加宽的双光子光谱技术,能够测量出原子能态的精细结构和超粗细结构,这对于原子物理学的发展具有十分重要的意义。     

CW环形染料激光器泵浦方式的研究

本文提出了一种新型的环形染料激光器泵浦方式,并同常规的泵浦方式加以比较。实验结果与理论预示相一致。     

激光光声光谱法测量碳—碳基(C/C)复合材料的密度分布

用激光光声光谱测量C/C复合材料的密度分布。探讨了在不同入射激光光斑尺寸和不同激光功率密度下对密度测量的影响。