集成光学中的介质薄膜

集成光学是近十年发展起来的一门光学、电子学和固体物理学的新的边缘学科。它的出现将使通讯技术、计算技术等信息处理和传输工程面临一场重大的改革。平面光波导介质薄膜无论在理论上,还是在实践上,都是集成光学元件的基础,而且有的己经应用在一些光学器件中。在工艺上,它发展了集成电路的生产工艺,但其要求更苛刻、更复杂。本文的主要内容是:(1)光导介质薄膜的基本特征;(2)平面光波导的耦合方式;(3)平面光波导的工艺简介。     

钛扩散LiNbO3分支光波导调制器的原理与研制

本文报道了作者设计并在实验室条件下研制的钛扩散 LiNbO_3分支光波导调制器。观察了其导波模式;测得其半波电压约为9.0伏,最大调制深度约为46%,估计带宽为5.5GHz;还观察了不同频率下的电调制现象。对提高器件性能提出了改进意见。     

关于干法刻蚀SiO_2的探讨

近年来,干法刻蚀工艺,由于其本身所存在的一系列优点,已经愈来愈受到人们的重视。本文参考了国外的有关文献和本人直接参与的工作,叙述了干法刻蚀sio_2的工艺过程和原理,并且与常规湿法化学刻蚀进行了对比。     

阶跃折射率介质薄膜平面光波导研制报告

阶跃折射率光波导在理论上是所有其它光波导器件的基础。本文重点介绍平面光波导的基本理论、模式控制以及试制结果。