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由于工艺的偏差主导了大部分器件的长度和宽度,所以这种偏差在更先进的工艺节点上尤其重要。传统的片上偏差(on-chip variation,OCV)已经使用了一个下降因子(derating factor)在所有的时序路径上,去模仿工艺变化,这样对于增加工艺偏差来说太悲观了。对比与传统的片上偏差,先进的片上偏差(Advanced OCV,AOCV)在不同的时序路径上给出了不同的下降因子。这样就可以减轻由于下降和减少过度设计和时序收敛周期而引起的过度悲观。这篇文章中我们介绍了一种创新的AOCV芯片设计流程,包括AOCV表格生成,执行和si gn-of f阶段。在AOCV表格生成中,我们重点介绍如何选择设计相关的工艺偏差参数。执行相关的AOCV表格可以加快转换周期,而且EDA时序修改工具能支持AOCV表格。在sign-of f阶段,我们对比了Synopsys Primetime基于路径分析AOCV的实验结果,表明误差在1%以内。 相似文献
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为了探索声表面波器件制作工艺,在压电器件工作原理的基础上,通过设计声表面波器件的工作频率、叉指宽度、间隙及对数等器件参数,绘制了掩模板,对制作的声表面波器件进行测试,制作了不同叉指对数、孔径长度、中心距离的电极.实验结果表明:以石英为基底,使用EPG533型光刻胶在前烘温度为105℃,曝光时间为8S,显影时间为50S时获得了较理想电极图形和稳定的实验参数. 相似文献
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对某型号汽油发动机活塞头部烧蚀问题进行了分析,采用鱼刺图分析工具分析了失效原因,应用活塞仿真分析软件进行了计算,发现活塞运行状况及受力异常.进而通过优化活塞型线及活塞销孔偏心设计,改善活塞运动状况及受力情况,最终解决了活塞头部烧蚀问题.此优化设计方法为活塞设计开发提供了参考. 相似文献
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