大口径溶胶-凝胶光学膜层提拉制备工艺控制

大口径溶胶-凝胶化学膜的光学性能指标主要由膜层厚度和折射率决定,提拉法制备工艺的关键技术就是对这两个参数进行精确控制。通过优化胶体制备工艺,并利用椭圆偏振法测量化学膜膜厚及折射率变化情况,获得了提拉速度模型,并进行了实验验证,为大口径化学膜高性能指标提供了技术和工艺保证。     

氘代聚苯乙烯胶体晶体的制备及光学性质研究

以水作为介质合成了高度单分散的氘代聚苯乙烯微球,并利用垂直沉积法制备了高质量的氘代聚苯乙烯胶体晶体.傅立叶变换红外光谱清楚地表明氘代苯乙烯单体发生了聚合反应;扫描电镜表面分析展示出胶体微球的高度有序排列,断面分析表明氘代聚苯乙烯胶体晶体为面心立方结构;光学透射谱显示出氘代聚苯乙烯胶体晶体的高次布拉格衍射特征,通过和理论计算的能带结构对比,进一步证实了氘代聚苯乙烯胶体晶体为面心立方结构;变角度光学透射谱测量显示,随着入射角的增大,(111)面的衍射峰蓝移,而(200)和(220)面的衍射峰发生红移.     

用于高功率激光放大器的单层宽谱增透膜

为了获得用于高功率激光放大器的单层宽带增透膜,采用有机聚合物聚乙烯吡咯烷酮掺杂调控二氧化硅胶体生长制备了粒度分布更宽广的稳定胶体体系,通过提拉镀膜工艺,制备了单层增透膜。采用粒度仪和粘度仪监测胶体的性质,用分光光度计测量了膜层透过率,并用X射线能谱分析了膜层结构。结果表明,聚乙烯吡咯烷酮引入胶体中使得胶体粒度分布更宽,所得膜层具有折射率渐变特性,因而膜层具有宽带增透的效果;膜层在550nm~950nm连续波段内透射率不低于99%。单层宽谱增透膜层不需后处理就可投入使用,膜层性能稳定,满足了激光装置片状放大器的运行要求。     

含POSS聚芴亚胺酮的合成、表征与性能研究

以9,9-双（4-氨基苯基）芴、4,4＇-二溴二苯甲酮及八氨基苯基笼型聚倍半硅氧烷（POSS）为反应单体,通过Buchwald-Hartwig交叉偶联反应,制得了一系列不同POSS含量的POSS基聚芴亚胺酮（PIKF）。通过红外、核磁共振、电子能谱、X射线衍射等对其结构进行了表征,采用热失重分析、紫外/可见光谱及荧光光谱测试了其性能。结果表明,随着POSS含量的提高,聚合物的起始热分解温度逐步升高（从497.62℃升高到508℃和541.61℃）;POSS的引入可有效降低聚集现象的发生,从而使其最大吸收波长红移（从385 nm移至412 nm）;而非共轭大体积POSS基的引入打断了链内共轭,使聚合物的最大发射波长蓝移（从518 nm至490 nm）。     

大口径石英元件精密清洗工艺研究

本文采用酸蚀刻结合超声波清洗的方式对石英元件表面进行精密洁净清洗,利用光学显微镜观测了英元件清洗前后的表面状态,利用暗场成像系统监测了元件整体清洗情况,利用表面颗粒计数器、接触角测量仪、荧光光谱仪和红外光谱仪检验了元件清洗效果,通过实验研究,对石英元件精密清洗工艺进行了定型。