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1.
介绍了氟气的性质及其应用,同时介绍了氟气在无机氟化反应和有机氟化反应中的应用。  相似文献   
2.
随着电子工业的迅速发展,八氟环丁烷作为常用的半导体工艺蚀刻或清洗气体,其需求量日益增加,对其纯度要求也越来越苛刻。总结了现有应用最为广泛的四种八氟环丁烷纯化技术:精馏技术、吸附技术、化学转化法、膜分离技术,分析四种纯化技术各自优缺点。在实际生产中,根据八氟环丁烷中所含杂质的种类,选择合适纯化技术联用来获得高纯八氟环丁烷。此外,应不断开发新型、高效电子气体纯化技术,促进我国电子气体行业的发展。  相似文献   
3.
根据《关于消耗臭氧层物质的蒙特利尔议定书》(简称《蒙特利尔议定书》)等相关公约,氯氟烃等具有消耗臭氧层活性化合物的使用与排放受到了严格的限制。作为氯氟烃类化合物的潜在替代品,氢氟醚类化合物的消耗臭氧潜能值为零,且较易与空气中的OH自由基反应,大气寿命较短,有着更低的全球增温潜能值,其在传热介质与电子设备清洗等领域有着较大的应用价值。本文综述了氢氟醚类化合物常见的几种制备方法,包括全氟化酰基氟或全氟酮的烷基化反应,含氟烯烃的加成反应、氟烯醚的氟化反应,对其优缺点进行了分析,并对其在浸没液冷等领域的应用提出了新的展望。  相似文献   
4.
通过对电子化学品在光伏电池产业中应用、发展情况进行总结,分析该行业的实际发展现状,展望我国电子化学品发展前景,并提出合理的发展思路。  相似文献   
5.
介绍了六氟-1,3-丁二烯的性质、纯化技术以及与传统含氟刻蚀气体刻蚀性能的比较。六氟-1,3-丁二烯是一种新型的电子气体,主要应用于超大规模集成电路的干法刻蚀方面。优越的刻蚀性能和优良的环境性能使其成为具有发展前景的下一代刻蚀气体。  相似文献   
6.
随着电子工业迅速发展,六氟化钨被广泛应用于半导体行业,其需求量日益扩大,对其纯度要求也越来越苛刻。综述了现有六氟化钨最常用的制备及纯化方法,分析了这四种纯化方法各自优缺点。在实际生产中,应根据六氟化钨中所含杂质的种类,联用多种纯化方法来获得高纯六氟化钨产品。此外,应尽早实现高纯六氟化钨工业化生产,填补国内相关领域空白。  相似文献   
7.
综述了含氟烯烃类化合物的多种官能化方法,主要包括烷基化与全氟烷基化反应,总结了目前含氟烯烃衍生化反应的研究成果,为今后浸没式液冷工质的分子设计与改良提供新的思路。  相似文献   
8.
对电解制氟技术进行回顾和总结。综述了制氟电解槽电子、热量、质量和两相动量传递及多场耦合仿真模拟研究进展,以及电解制氟设备及工艺改进提升方面的研究进展。  相似文献   
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