某些氟化物的升华提纯：II.ZrF4和HfF4的升华提纯

尽管升华方法在除去氧化物方面很有成效，但也必须注意ＺｒＦ４和ＨｆＦ４的水解温度和脱水温度。由于升华方法不能有效地除去象ＦｅＦ３等氟化物杂质。作根据ＦｅＦ６＾３－，ＣｏＦ６＾３－是属于外轨道络合物，它们是不稳定的和容易离解出Ｆｅ＾３＋和Ｃｏ＾３＋，同时ＦｅＺｒ６·６Ｈ２Ｏ也易于离解出Ｆｅ＾２＋，以致使（ＮＨ４）３ＺｒＦ７和（ＮＨ４）３ＨｆＦ７可以用ＤＤＴＣ－ＣＨＣｌ３可以用ＤＤＴＣ－ＣＨＣｌ３，在     

ZrF4和原子态H的氧化还原反应

在ＺｒＦ４原料的制备和ＺＢＬＡＮ氟化物玻璃的熔制过程中，有黑色物质出现，本文通过化合物显色原理推断，只能是来自于ＺｒＦ４的被还原，而从反应自由能判断，ＮＨ４ＨＦ２和ＮＨ４Ｆ能因热分解而释放出原子态Ｈ，Ｐｔ也可以把ＮＨ３和Ｈ２催化分解而释放出原子态Ｈ。因为ＺｒＦ４和原子态Ｈ可以发生氧化还原反应，而得到ＺｒＦ３、ＺｒＦ２，而ＺｒＦ３和ＺｒＦ２正是黑色的，这就是黑色物质出现的原因。     

硅酸盐激光玻璃的离子交换增强

用离子交换法能使硅酸盐激光玻璃机械强度增加２－３倍，激光强度增加３倍，从而弥补了自身热光系数较大的缺点。虽然玻璃在处理后，阈值稍微升高，效率稍有下降，但因允许输入更大的能量，使输出得到３倍的增加，说明了离子交换增强方法是成功的。     

硫系玻璃中微量杂质对光性影响的消除和测定

经过不少研究工作者的努力,硫系玻璃的透过波长区域现已达到0.8～19μm,由于硫系玻璃易于制成各种形状的片状器件,而且化学稳定性比卤化物晶体好,所以在不能使用KBr晶体的地方,就可以用硫系玻璃代替作窗口材料。用它作芯材拉制的光导纤维,已用     

磷酸盐玻璃熔炼时对铂的腐蚀

通过对磷酸盐的生成热和标准熵比较准确的估算,并应用热力学第一近似方程,对磷酸盐玻璃的熔炼过程进行了剖析,发现体系中存在的氧和水是铂坩埚受侵蚀的主要原因,而腐蚀产物Pt（PO₃）₂和Pt（PO₃）₄能容易地和游离氧化物发生反应,释出铂粒子。通入POCl₃气氛,既可除水,除去游离氧化物,又能达到隔绝空气的目的,从而可导致铂粒子大大地减少．     

某些氟化物的升华提纯 Ⅱ．ZrF_4和HfF_4的升华提纯

尽管升华方法在除去氧化物方面很有成效，但也必须注意ＺｒＦ４和ＨｆＦ４的水解温度和脱水温度．由于升华方法不能有效地除去象ＦｅＦ３等氟化物杂质．作者根据ＦｅＦ６３－，ＣｏＦ６３－是属于外轨道络合物，它们是不稳定的和容易离解出Ｆｅ３＋和ＣＯ３＋，同时ＦｅＺｒＦ６·６Ｈ２Ｏ也易于离解出Ｆｅ２＋，以致使（ＮＨ４）３ＺｒＦ７和（ＮＨ４）３ＨｆＦ７可以用ＤＤＴＣ－ＣＨＣｌ３，在ｐＨ３～３．５的有效萃取成为可能．在ＺｒＦ４－ＨｆＦ４的二元组分系统中，它们的升华、凝华过程是遵循图２的相平衡规律进行的．用ＸＲＤ检测升华产品，为无水单斜态的ＺｒＦ４或ＨｆＦ４晶体，用ＧＦＡＡＳ检测，升华前后Ｆｅ含量各自为０．８ｐｐｍ和０．５ｐｐｍ，批生产量２５０ｇ．     

295毫微米附近连续可调谐二次谐波的产生

由闪光灯泵浦若丹明6G染料激光器产生的较低输出功率水平的宽带激光辐射,通过KDP晶体,有效地获得了窄带紫外谐波输出。通过改变相位匹配角θ,紫外谐波输出能在相当宽的光谱区内连续调谐。     

氧化物杂质对氟锆玻璃光纤损耗的影响

在氟锆光纤中,氧化物杂质可以引起严重的散射和吸收损耗,其原因不外乎有以下几点: 1.析晶。氟化物玻璃在熔制时本身就是比较容易析晶的,而存在的氧化物杂质在其中又起着晶核作用,以致加速了析晶过程。 2.氧化物杂质自身的散射和吸收。     

硫系玻璃中微量杂质对光性影响的消除和测定(续)

四、氧杂质的影响 以As_2O_2玻璃的不同氧含量的红外透过图作比较,可看出氧含量对透过的严重影响,见表1和图9a～d。 图中看出,当氧含量达到10~(-4)数量级时,在约800cm~(-1)的氧吸收峰造成了玻璃的截止。 硫系玻璃的红外透过基频带及氧化物杂质键位置分别列于表2及表3。表中示出的各氧化物杂质键可能出现的波长数,因成分变化及组成不同会稍有前后移动。从基频吸收带     

Ge-As-Se硫系玻璃红外光纤

研究了光纤芯料Ge-As-Se等系统玻璃物理和光谱性质。用棒管法拉制了直径从300--70Oμm的光纤。测定了在O.85μm,1.25μm及10.6μm波长时的光损耗,用电子探针分析了光纤断面的组份均匀性。采用中子活化法分析了芯料中的氧含量,并拍摄了其断面的显微照片。最后讨论了杂质对光损耗的影响。