席夫碱自组装膜分子结构对Cu缓蚀性能的影响

通过比较两种典型结构的席夫碱自组装膜,研究了成膜分子结构对自组装膜质量及其缓蚀性能的影响。分别用电化学交流阻抗技术、稳态极化法和X射线光电子能谱方法,对所形成的自组装膜(SAMs)进行表征,并比较了对铜基底的缓蚀性能。结果表明,席夫碱分子中含有长直链烷基时,得到的SAMs具有更好的质量,有利于提高对铜基底的缓蚀效率。     

浅谈青年教师参与胶体与界面化学教学改革的几点体会

本文分别从加强基础理论教学、理论联系实际、提高综合素质和营造和谐教学氛围四个方面,就青年教师参与胶体与界面化学课教学改革进行了分析,并提出了今后努力的方向。     

植酸和钼酸钠自组装膜对铜表面的缓蚀作用

采用电化学阻抗谱(EIS)研究了植酸和钼酸钠单一配方及其复配自组装膜在质量分数3.5%NaCl溶液中对铜基底的缓蚀作用。结果表明:植酸与钼酸钠单一配方对铜基底均具有一定的缓蚀作用;因植酸分子的刚性结构,使自组装膜中含有缺陷,与钼酸钠复配自组装膜后,表面覆盖度明显增加,膜质量得到了改善,提高了对铜基底的缓蚀效率。     

一种频差检测系统在电化学中的应用

本文利用石英晶体的共振频率随晶片附着物质量的变化而变化的原理，采用频差检测方法，将压电石英晶体作为质量传感器，设计出了测定物质质量微弱变化的检测系统，并成功地应用于金溶胶在石英晶体电极上沉积过程的在线测量中。     

镁铝层状双金属氢氧化物的表面修饰及表征

采用共沉淀法制备的镁铝层状双金属氢氧化物(Mg-Al-CO3-LDHs)分别与柠檬酸、萘乙酸、1-羟基环己基甲酸的丙酮溶液反应,进行表面修饰。产物用粉末X射线衍射(PXRD)、傅里叶变换红外光谱(FT-IR)、透射电镜(TEM)进行表征。PXRD谱图显示,修饰后的Mg-Al-CO3-LDHs的层间距没有增大。在红外谱图上可以观察到修饰剂的特征基团吸收峰。TEM照片显示,Mg-Al-CO3-LDHs修饰前后粒子尺寸没有改变,修饰后的Mg-Al-CO3-LDHs层片连接在一起,说明其表面连接上了修饰剂,证明成功制备了表面修饰的Mg-Al-CO3-LDHs。     

天冬氨酸插层ZnAl双金属氢氧化物的制备及其对铜的缓蚀性能研究

以锌铝层状双金属氢氧化物(LDHs)为主体,夭冬氨酸(aspartic acid,Asp)为客体,采用离子交换法合成了Asp-LDHs杂化物.粉末X射线衍射(PXRD)和傅里叶变换红外光谱(FTIR)分析结果表明,天冬氨酸成功插入LDHs层间,形成杂化物.用胶体沉积技术将杂化物沉积在铜基底上,电化学阻抗谱(EIS)和极...     

铜电极上席夫碱自组装膜的电化学阻抗表征

用电化学阻抗法表征了铜表面上席夫碱自组装膜及其硫醇改进膜。研究结果表明,因席夫碱分子的刚性结构,使自组装膜中含有部分缺陷。用烷基硫醇进一步修饰席夫碱自组装膜后,表面覆盖度明显增加,而膜电容显著降低,说明膜质量得到了改善。