含钆聚酰亚胺中子屏蔽材料的制备及性能分析

通过硅烷偶联剂对氧化钆(Gd₂O₃)进行表面改性处理制备了改性氧化钆(M-Gd₂O₃);采用水热法合成了Gd-MOF[Gd₄(1,2,4,5-BTEC)₃];将聚酰亚胺(PI)分别与Gd₂O₃、M-Gd₂O₃、Gd-MOF耦合制备了Gd₂O₃/PI、M-Gd₂O₃/PI、Gd-MOF/PI 3种复合屏蔽材料。通过SEM、EDS、FT-IR、TGA对复合屏蔽材料进行表征，结果表明，成功实现了M-Gd₂O₃与Gd-MOF的合成；在钆质量分数为4%时，3种复合屏蔽材料的T_5%均在500℃以上；随着钆质量分数的进一步提高，3种复合屏蔽材料的热稳定性均出现不同程度的下降。拉伸试验结果表明，在钆质量分数为4%时，3种复合屏蔽材料的...