铁精粉还原炉用Si_3N_4（Sialon）/SiC材料在H_2O—H_2—N_2气氛中热力学计算分析

根据热力学原理对Si—C—N—H—O五元系统进行了平衡状态下的相稳定性计算,绘制了在1 073 K和1 223 K下的SiC、Si_3N_4、Si_2N_2O和SiO_24个稳定相的稳定性与N_2分压和H_2O分压的关系图,即优势区域图,分析了其凝聚相的稳定区域。同时结合SEM显微结构分析氢气还原炉中Si_3N_4/SiC和Sialon/SiC制品抗H_2O—H_2—N_2气氛的侵蚀性能。     

还原炉用Sialon／SiC和Si3N4／SiC材料在H2O—H2-N2气氛中的抗侵蚀行为

研究铁精粉还原炉中的SiMon／SiC和Si3N4/SiC内衬材料在1223K、1323K、1423K温度下和H2O-H2-N2气氛中氧化100h前后的质量变化及反应前后的显气孔率、体积密度、XRD衍射分析和SEM分析。结果表明：制品在H2O-H2-N2气氛中主要是受H20（g）的氧化而被破坏的,同时发现Sialon／SiC制品比Si,NdSiC制品的抗H20氧化能力好,其中抗氧化性大小关系是Sialon／SiC〉Sialon／SiC（Z=3）〉Sialon／SiC（Z=2）〉Si,N4/SiC。     

铁精粉还原炉用Si3N4（Sialon）/SiC材料在H2O—H2—N2气氛中热力学计算分析

根据热力学原理对Si—C—N—H—O五元系统进行了平衡状态下的相稳定性计算,绘制了在1 073 K和1 223 K下的SiC、Si₃N₄、Si₂N₂O和SiO₂4个稳定相的稳定性与N₂分压和H₂O分压的关系图,即优势区域图,分析了其凝聚相的稳定区域。同时结合SEM显微结构分析氢气还原炉中Si₃N₄/SiC和Sialon/SiC制品抗H₂O—H₂—N₂气氛的侵蚀性能。