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化学工业
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1
1.
抛光液组分对3D微同轴中铜和光刻胶化学机械抛光速率选择性的影响
李森
王胜利
李红亮
王辰伟
雷双双
刘启旭
《电镀与涂饰》
2022,41(7):486-490
研究了碱性抛光液的pH、SiO
2
磨料质量分数、H
2
O
2
体积分数和甘氨酸质量分数对3D微同轴加工中铜和光刻胶化学机械抛光(CMP)去除速率的影响,得到较佳的抛光液组成为:SiO
2
5%,H
2
O
2
20 mL/L,甘氨酸2.5%,pH=10。采用该抛光液时,铜和光刻胶的去除速率非常接近,满足3D微同轴加工对铜和光刻胶CMP去除速率选择性的要求。
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