SiO2抛光液对A1N基片抛光性能的影响

针对AlN基片CMP平坦性问题,从pH值、磨料粒度以及磨料的质量分数等方面研究了抛光液参数对抛光效果的影响。通过对AlN基片进行抛光实验,确定pH为10.5～11.5时,采用大粒径、高质量分数纳米SiO2溶胶作为磨料,有利于抛光速率的提高。利用纳米SiO2溶胶、去离子水、pH调节剂和稳定剂自主配制抛光液A,与纯水按质量比1∶5稀释后,在压力1.8MPa、转速60r/min、流速340mL/min条件下,对AlN基片进行抛光,抛光速率为0.5μm/min。抛光1.5h后,AlN基片的表面粗糙度可达28nm,表面无划痕。     

浅谈混凝土管桩的施工工艺

预应力混凝士管桩基础因其施工方便、承载力可靠以及经济性好的特点得到了比较广泛的应用，也积累了不少的工程经验，本文做了一个简单的归纳总结，以供广大设计人员参考。     

一种碱性玻璃腐蚀工艺的研究

本文针对光学玻璃镀膜工艺对表面粗糙度的要求,提出有异于传统玻璃腐蚀方法的一种新工艺,将玻璃在腐蚀溶液中浸泡24h后再进行超声处理,超声频率53kHz,超声时间40m in,超声温度60℃。经过该工艺处理后的玻璃,表面粗糙度大大提高,在后续的镀膜工艺中,能有效提高膜层和玻璃基板之间的附着力,从而改善玻璃作为光学显示器的各...     

CMP抛光用二氧化硅纳米溶胶沉降现象探究

硅溶胶放置过程中由于粒子会发生聚集而导致重力作用大于布朗运动发生沉降.本文以DLVO理论为基础解释了抛光用硅溶胶在放置过程中发生沉降的原因,通过测定硅溶胶的Zeta电位、比重、粘度、pH值考察了粒径、浓度、外加分散剂对硅溶胶稳定性的影响,并提出了防止硅溶胶放置过程中发生沉降的措施.