以PVF_2为敏感膜的声学敏感器件

聚偏氟乙烯(PVF_2)是一种压电高聚物.利用PVF_2的压电特性.将它粘贴在MOSFET的栅极上.构成POSFET.在声学波的作用下,产生感应电荷.由此调制MOSFET的沟道电导.从而引起漏源电流的变化.理论和实验都证明.在一定的频率范围内,声学波与输出信号呈线性关系.所以,通过电学讯号的测量,就可达到检测声学讯号的目的.可以应用在声学换能器上,作成医学的超声成象系统.     

铬[Vl]离子敏感半导体器件的研究

<正> 我们采用半导体平面工艺技术,制造栅绝缘膜为Si_3N_4/SiO_2的n沟道耗尽型氢离子敏感半导体器件,再在栅绝缘膜上通过溅射等方法制造一层以季铵盐为活性物质的PVC膜;然后把器件灌封在聚乙烯塑料管中。将铬离子敏感     

硅／硅直接键合制备p^＋／n^—和n^—／n^—结构

本文采用Si/Si直接键合制备p~+/n~-、n~-/n~-结构的工艺原理及方法。通过实验,摸索出了一种有效的表面清洗-高温处理Si/Si键合工艺;采用该工艺制出了p~+/n~-、n~-/n~-样片;对键合的微观结构、键合强度、杂质分布及电接触特性进行了检测。     

ZnO纳米线阵列膜的自组装生长及其金属接触特性

以磁控溅射制备的ZnO纳米晶薄膜作为籽晶层,用水热法在80℃氧化铟锡(indium tin oxide,ITO)玻璃衬底上,实现了大面积ZnO纳米线阵列膜的取向生长,制备了3种金属-半导体-金属(metal-semiconductor-metal,MSM)结构的ZnO半导体纳米线阵列膜样品,测试了薄膜样品的光学特性和I-V特性。结果表明:在相同的生长液浓度下,籽晶层对所生长的纳米线尺度分布有显著影响。所制备的纳米线薄膜在室温下具有显著的紫外带边发射特性。ZnO纳米线/Ag和ZnO纳米线/Al的金属-半导体接触均具有明显的Schottky接触特性,而ZnO纳米线/Au的金属-半导体接触具有明显Ohmic接触特性。     

半导体电场敏感器件和电场传感器

本文介绍了用MOS工艺制作的直接栅电场敏感FET,对其敏感特性进行了实验研究和理论分析.室温下,用此器件在空气中检测电场时,在外加电场小于空气击穿场强的范围内,器件的电流-电场跨导大于2μA/(kV/cm).用直接栅FET和普通MOSFET作差分对,利用栅绝缘层上压降正比于外电场的原理,用反馈和差分放大组合电路制作电场传感器.得到了0.2V/ (kV/cm)的线性输出.     

一种新型测温器件

正温度系数温敏二极管系利用特定结构下半导体内载流子产生及其散射机构的热效应而制成的一种新颖测温器件.文中介绍了该器件的工作原理、结构、制造和主要性能特点.     

氧化锌纳米结构的电化学控制制备及其光致发光性能

利用电化学沉积法, 通过调节电解液浓度、时间、温度等因素, 在氧化铟锡(ITO)导电玻璃上制备了形貌不同的氧化锌(ZnO)纳米薄膜. 通过X射线衍射、扫描电镜、透射电镜、光致发光谱等测试手段对不同形貌的ZnO纳米薄膜进行了表征和研究. 研究表明, 在高于阈值电压的情况下氧化锌薄膜迅速生成, 微观形貌主要受电解质溶液的浓度影响, 随着电解质浓度的升高可分别获得胞芽状、棒状、片层状结构, 结合晶体生长理论探讨了不同形貌ZnO薄膜的成因. 室温光致发光谱显示片状的ZnO纳米薄膜在近带边有较强的宽化激发峰, 而可见区的发光峰受到明显抑制, 这一结构有望应用于光电器件、传感器等领域.     

ZnO纳米线阵列的籽晶控制生长及其紫外探测性能

分别利用磁控溅射沉积、溶胶-凝胶浸涂及旋涂等方法在氧化铟锡(indium tin oxide,ITO)导电玻璃上得到籽晶层,然后通过低温水热法获得了ZnO纳米线阵列。通过X射线衍射、扫描电镜、透射电镜、光致发光谱等测试手段对不同方法获得的ZnO籽晶和纳米线阵列进行了表征和研究。进而在光刻有银电极的ITO玻璃基片上制备出紫外探测原型器件,测试了其紫外响应特性,并结合ZnO纳米线表面特性讨论了器件的紫外响应机理。结果表明:溶胶-凝胶旋涂获得的籽晶最小,生长出的纳米线长径比最高,直径最细,取向性也最好。对应的室温光致发光谱在近带边有优良的激发峰,而可见区的发光峰受到明显抑制。旋涂和浸涂籽晶获得的紫外探测样品响应迅速,但恢复较慢;磁控溅射籽晶样品有较优的响应和恢复特性,但信号强度较低。