刚柔嵌段共聚物聚苯基喹啉-b-聚苯乙烯的合成

利用原子转移自由基聚合合成了端羧基聚苯乙烯,然后与4-氨基苯乙酮反应,生成末端为乙酰基的聚合物,以P2O5为催化剂,将功能化的聚合物与5-乙酰基-2-氨基二苯甲酮共聚,合成出刚柔嵌段共聚物聚苯基喹啉-b-聚苯乙烯(PPO-b-PS),用红外光谱(IR)、氢核磁共振(1HNMR)和热重分析(TGA)对其结构和性能进行了表征,并在三氟乙酸／二氯甲烷混合溶剂中进行了初步的自组装研究。     

碳纳米管修饰电极的制备及其对NADH的电催化氧化

采用丝网印刷技术,制备出羧基化多壁碳纳米管修饰的丝网印刷碳电极,并采用循环伏安法研究了该电极对还原型烟酰胺腺嘌呤二核苷酸(NADH)的电催化氧化性能.结果表明,与未修饰丝网印刷碳电极相比,多壁碳纳米管修饰丝网印刷碳电极显著降低了NADH的氧化峰电位,消除了反应产物对电极的污染及其它电化学反应对测量的干扰.将修饰电极与流...     

光固化有机硅/纳米SiO2杂化材料的制备和表征

以双碳羟基硅油(K-50)、异佛尔酮二异氰酸酯(1PDI)和丙烯酸羟乙酯(HEA)为原料,合成光敏性有机硅树脂PSUA;以PSUA为有机相,溶胶-凝胶法制备的硅溶胶为无机相,以γ-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷(TMSPM)为两相间的偶联剂,制备了光固化有机/无机杂化体系.对反应产物和硅溶胶进行了红外光谱(FT-IR)分析,用扫描电镜(SEM)观察了光固化膜断面形貌,用铅笔硬度法测定了光固化膜硬度.结果表明合成了预期产物,光固化杂化体系中纳米SiO2分散比较均匀,光固化膜具有很好的韧性和较高的硬度.     

仿珍珠层自组装制备有机/无机纳米复合薄膜

模仿珍珠层结构, 采用蒸发诱导自组装的方法, 在石英片表面制备了聚三缩丙二醇双丙烯酸酯( PTPG-DA) / SiO₂ 纳米复合薄膜, 采用FT-IR、XRD 和TEM 等分析技术对薄膜结构进行了表征, 测试了其摩擦力学行为, 并初步讨论了纳米复合薄膜的形成机理。结果表明, 所制备的薄膜具有有机/ 无机有序交替的层状纳米复合结构, 其聚合前的层间距为2. 65 nm , 聚合后的层间距为2. 35 nm。聚合后的纳米复合薄膜具有较好的减摩性能。      

相变材料应用于红外热成像假目标的初步研究

红外热成像假目标因其独特的军事价值,受到了广泛的重视．测试了不同厚度、不同环境温度,不同用量条件下的熔化过程中,不同种类相变材料在相变温度附近的维持时间,分析了相变材料应用于红外热成像假目标的技术途径,初步验证了其可行性．     

溶胶-凝胶法制备ITO薄膜研究进展

概述了近年来国内外溶胶-凝胶法(Sol-Gel)制备ITO薄膜的研究状况,对Sol-Gel法制备ITO薄膜工艺做了简要介绍,重点讨论了Sol-Gel法制备ITO薄膜的溶胶体系,分析比较了有机醇盐、无机盐以及掺入ITO粉末方法体系的优缺点,最后讨论了甩膜法、提拉法及平铺法在Sol-Gel法制备ITO薄膜中镀膜的应用.指出Sol-Gel法是一种高效可行的制备ITO薄膜的方法,有着广阔的应用前景.     

LaAlO_3基体上CaBaCo_2O_(5+δ)多晶薄膜的微观结构以及生长方式

采用脉冲激光沉积方法,在(001)LaAlO3上沉积CaBaCo2O5+δ多晶薄膜,用X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)对基体和薄膜的微观结构进行观察,并探讨了薄膜的生长机制以及改善薄膜质量的可能工艺。结果表明,(1)LaAlO3基体中存在位错、孪晶等缺陷,且孪晶类型以(100)楔形孪晶为主;(2)CaBaCo2O5+δ薄膜为多晶薄膜,薄膜底部保留了薄膜生长过程中的初始晶粒结构,晶粒大小约5~8 nm,厚度约为5~7 nm。薄膜顶层的晶粒较大,约为11~16 nm。     

纳米SiO2改性紫外光固化有机硅杂化材料研究

合成了光敏性有机硅树脂PSUA,采用超声分散法将纳米SiO2分散在光敏性有机硅体系中,通过紫外光固化方式制备了光固化有机硅杂化材料.研究了纳米SiO2含量对杂化体系稳定性和光固化速率的影响,测定了光固化膜硬度,用扫描电镜观察了光固化膜断面形貌.实验结果表明,表面改性的纳米SiO2在杂化体系中分散比较均匀,稳定性好,能够有效增强光固化膜的硬度,但降低了光固化速率,杂化体系中纳米SiO2的用量以3%～5%为宜.     

导电涂料的原理及其军事应用

讨论了本征型导电涂料和掺合型导电涂料的导电机理以及影响其导电性能的主要因素,介绍了各种功能型导电涂料在军事领域的应用.     

光致变色介孔二氧化硅/磷钼酸复合薄膜的制备与性能

利用蒸发诱导自组装和后植入的方法,制备出了在紫外光照下可变色的二氧化硅/磷钼酸复合薄膜.结果表明,磷钼酸粒子很好的分散并牢牢附着在有机胺改性的二氧化硅介孔薄膜的孔道中;经紫外光照后发生电荷转移,杂多阴离子被还原成杂多蓝,由无色变成蓝色,而薄膜的褪色过程则与氧气存在有关.