铝合金化学镀Ni-P-B的研究

以二甲基胺硼烷（DMAB）为还原剂,在铝合金上获得了化学镀镍低磷低硼镀层,研究了硫酸镍、次磷酸钠、DMAB、络合剂、pH值和稳定剂对镀层的沉积速度、显微硬度和微观形貌的影响。通过正交实验和单因素实验,确定了最佳工艺配方为：24g／L硫酸镍,适量DMAB,12g／L次磷酸钠,3mg／L硫脲,30mL／L络合剂。所获得的化学镀镍镀层中P、B、Ni的质量分数分别为：1．8l％、0．26％和97．93％。该镀层与基体的结合力良好,硬度在550～710Hp。范围内,在铝质活塞上应用获得了满意的效果。     

LCL型三相并网逆变器双闭环解耦控制器设计

在带LCL滤波器的三相并网逆变器电流双闭环有源阻尼方案中,精确设计控制器参数有助于提高系统控制性能。本文针对其具体拓扑结构,建立了dq同步旋转坐标系下的数学模型,对dq两轴进行解耦控制。研究基于期望频率特性的电流双闭环控制器的设计方法,并重点分析当系统参数发生变化时,对系统稳定性的影响。该设计方法在已知系统参数的情况下,可以准确地计算出内外环的控制器参数,在保证系统性能的同时获得一定的系统鲁棒性。仿真和样机实验结果都表明,该控制器设计方法可以使带LCL滤波器的三相并网逆变器系统稳定可靠的运行,并获得高质量的并网电流。