电沉积聚 8-羟基喹啉膜及其耐蚀性的研究

采用循环伏安法合成了一种新的聚合物膜——聚8-羟基喹啉膜,推测了聚合的机理,通过红外光谱分析了聚合膜的组成。采用单因素实验优化了成膜条件,结果表明,循环伏安法形成聚8-羟基喹啉膜的最佳条件是:8-羟基喹啉浓度为0.002 mol/L,氢氧化钠浓度为0.4 mol/L,扫描速度30 mV/s,扫描8圈。采用该成膜条件在镀镍工件上电沉积聚8-羟基喹啉,其表面形成了一层浅黄色明亮光滑的致密薄膜,达到封孔目的,使得工件的耐蚀性显著提高。     

不对称交流脉冲电位法制备聚8–羟基喹啉薄膜工艺

采用不对称交流脉冲电位法在镀镍工件表面制备聚8–羟基喹啉薄膜。研究了阶跃电位、阶跃时间、重复次数和溶液中8–羟基喹啉含量等工艺条件对电沉积聚8–羟基喹啉薄膜的影响。分别采用塔菲尔曲线测量、扫描电镜和能谱分析对电沉积后工件的耐蚀性、薄膜的表面形貌和组成进行分析。最佳工艺条件为:8–羟基喹啉0.002mol/L,氢氧化钠0.4mol/L,正阶跃电位0.55V,负阶跃电位0.05V,正阶跃时间0.2s,负阶跃时间0.1s,重复次数100。采用最佳工艺处理后,工件的腐蚀电位、腐蚀速率分别为0.32V和4.1581×103g/(m2·h),耐蚀性优于未处理的工件,且与铬钝化处理的工件相当。