进电方式对高阻半导体硅放电加工影响研究

进行了高阻半导体硅的放电铣削加工实验,通过检测脉冲放电电压和电流波形,对固定、旋转、随动三种进电方式下的加工情况进行了对比。结果表明：固定进电方式下,由于进电点会逐步生成不导电的钝化膜,接触电阻不断增大,回路中的总电阻不断增大,放电峰值电流逐步减小,最终导致无法加工;旋转进电方式下,由于进电电极与加工区域距离增大,导致放电回路中的体电阻不断增大,放电峰值电流也会逐步减小;随动进电方式下,放电回路中进电电极会不断刮除产生的钝化膜且极间距离维持不变,因此接触电阻和体电阻能保持始终稳定,放电加工稳定性较好。
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扫描喷射电沉积制备多孔金属镍

采用扫描喷射电沉积制备具有一定厚度、孔隙率较高、组织较均匀的多孔金属镍;并研究了在不同扫描速率、喷嘴高度等实验条件下,多孔金属镍电沉积生长的行为特性;最后应用图形处理软件Image J对多孔金属镍的孔隙率和相对密度进行分析,得到了最佳实验参数.结果表明:采用扫描速率为4 mm/s时,孔隙结构相当完善;当喷嘴高度为6 mm时,孔隙率和相对密度比较适中.     

喷射速度对喷射电沉积多孔金属镍的影响

借助电化学技术,采用喷射电沉积的方法,直接制备出具有一定厚度、孔隙率较高、组织较均匀的多孔金属镍,并研究了不同喷射速度对喷射电沉积直接制备多孔金属镍的表面形貌和结构特征的影响。研究结果表明,多孔金属镍的孔隙率随喷射速度的增加先减小后增加。