几种基改剂在血铅检测中的应用比较

目的:研究常见的几种基改剂在石墨炉原子吸收法测定血铅含量中的应用。方法:通过设计正交实验,比较5种基改剂直接稀释血样后进行检测的响应情况。结果:以硝酸铵、硝酸镁、抗坏血酸为基改剂测血铅时,灰化温度到800℃后吸光度值急剧下降,显然这3种试剂不适合作为测定血铅的基改剂;氯化钯较磷酸二氢铵,其吸光度值稳定、精密度好,是石墨炉原子吸收法测定血铅比较理想的基改剂。     

ITO膜应用于建筑玻璃中的低辐射玻璃

镀膜玻璃根据其特性可分两大类.即遮阳膜和低辐射膜(又称隔热膜).本文主要阐述低辐射膜系中Indium Tin Oxide(缩写为ITO)膜,应用于建筑玻璃的特点、功能、效果、制备方法和有关主要工艺参数.     

掺锡氧化铟薄膜应用于电热玻璃

用直流磁控反应溅射技术,在玻璃表面淀积掺锡氧化铟透明导电薄膜(简称ITO膜),成功地应用到飞机、机车、船舶等电热玻璃上.该技术的研究成功,为我国电热玻璃的更新换代闯出了新的途径.本文介绍了ITO薄膜的特性、导电原理及其制备方法,对关键工艺参数进行较详细地讨论.实验结果表明,以ITO膜为导电材料制备的电热玻璃,克服了以往电热玻璃所有缺点.并且,还具有独特的光学性能,既可节省能源,又对驾驶员的身心健康起到了保护作用.     

溅射工艺对ITO膜性能的影响

采用磁控反应溅射技术在玻璃表面上淀积大面积掺锡氧化铟薄膜(英文缩写为ITO),成功的应用到各种除冰霜用挡风电热玻璃、液晶显示透明电极和场致发光器件等。本文主要讨论不同的靶材比例、溅射电压、氧分压、基片温度、膜层厚度等工艺参数对ITO膜特性的影响。     

高阻抗变压器附加损耗增大的原因分析

由于变压器机械强度问题日益突出,越来越多的用户采用高阻抗变压器。但高阻抗变压器的附加损耗较大,如何降低其附加损耗是高阻抗变压器设计、制造中应着重解决的问题。通过对高阻抗变压器附加损耗增大的原因的理论分析,提出了实际生产中降低附加损耗的措施。     

反应溅射掺锡氧化铟薄膜成份与结构的研究

本文介绍了采用直流磁控反应溅射技术，在氩氧混合气体条件下制备掺锡氧化铟薄 膜（简称 ＩＴＯ膜）的工艺。给出的 ＤＰＳ、ＡＥＳ、ＸＰＣ的分析结果表明： ＩＴＯ薄膜 的成份为 Ｉｎ＿２Ｏ＿３和 ＳｎＯ＿２组成；其 ＩＴＯ薄膜为立方结构。     

磁控反应溅射制备大面积掺锡氧化铟薄膜工艺探讨

本文主要介绍磁控反应溅射制备大面积 ＩＴＯ薄膜（掺锡氧化铟透明导电薄膜）的导电原理、成膜过程、工艺参数的选择以及不同工艺参数对产品性能的影响。实验结果表明：选择各种合理的工艺参数能够获得不同产品需要的ＩＴＯ薄膜。