大功率电源校准装置的研制

本文就越来越多的企事业单位使用大功率电源却缺乏有效校准手段的问题展开讨论,并通过研制校准装置（含高压和大电流两个模块）,建立校准系统来解决问题。     

亚微米光栅曝光系统的应用及设备关键技术研究

半导体工艺中的光刻是芯片制造中最关键的工艺。DFB半导体激光器的腔体结构与普通半导体激光器的腔体结构不同,需要制作周期光栅,光栅周期为亚微米数量级;鉴于亚微米光栅曝光系统在半导体激光器的应用需求,瑞士一家公司研制了一款专用于亚微米周期光栅的设备Phabler 100M DUV光刻机;本系统采用了非线性晶体的倍频效应和周期性光栅的泰伯效应。这些关键技术用较低的成本实现了极高的分辨率,可以制作周期性光栅并达到100 nm的线条分辨率;掩模版和晶片的不平行将造成光刻线条的不均匀,应用CCD探测器和计算机相结合的办法是做平行度的关键调试。     

浅谈药企废水处理技术

分析了制药生产废水的水质特征，介绍了近年来国内外制药废水处理过程中常采用的各种物化法、化学法、生化法及其他组合处理方法，评述了各种处理方法的特点及其存在的问题，讨论了处理工艺的选择和制药废水的资源回收利用问题。