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激光电沉积是近十年来发展起来的一项新技术,引起人们日益广泛的兴趣。目前,我国尚属空白。本文主要研究Cu/Cu~(2+)电极体系(0.05M CuSO_4+1MH_2SO_4)在高强度氩离子激光束的照射下,沉积层结构的变化规律。用扫描和透射电子显微镜对沉积层的形貌、结构、组织进行了观察,结果表明,激光强化镀层晶粒细小,组织致密,与基体结合力好,质量明显提高。还发现,激光强度以及激光照射镀层的时间对镀层的结构有影响。 相似文献
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综述了1979-1986年国外发表的有关激光强化电镀的研究论文和专刊,分别介绍了早期工作、近期研究成果以及今后的发展方向.这种新技术特别适用于微电子工业的电路设计和修复. 相似文献
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