一维铂纳米线阵列的模板电沉积及其表征

将一种复合无机介孔膜作为新型的模板应用于一维纳米线阵列的模板合成研究中,通过采用模板恒电位沉积的方法制备出一维铂纳米线阵列,并利用扫描电镜,透射电镜,X射线衍射,能量分布谱,选区电子衍射对该铂纳米线阵列进行了表征。结果表明:通过模板恒电位沉积的方法可以将金属铂组装在复合无机介孔膜内的二氧化硅介孔管中,除去模板后,进而得到长度为10μm的一维多晶铂纳米线(半径为3～4nm)阵列。