正性光刻胶的成膜剂或粘附剂对其性能的影响

线型间-甲酚-甲醛树脂是正性光刻胶的成膜剂或粘附剂,在正胶中除了有成膜作用外还能在显影液中与邻迭氮萘醌磺酸酯型光敏剂偶合而提高未曝光区正胶的耐碱性与耐腐蚀性。本文研究了树脂分子量大小对正胶抗化学试剂性能的影响。若树脂分子量太小,则正胶的耐碱性与耐腐蚀性就差,若分子量太大,则正胶的粘附性就差。数均分子量     

重氮胶片的相对偶合速度及其它相关性能的研究

我们用紫外分光光度仪测定了各双组份重氮胶片显影后所得偶氮染料的吸收光谱、吸收强度及相对偶合速度,这些重氮片分别由八种常用重氮盐及十五种常用偶合剂等组成。由此我们可以得到在重氮片上进行偶合反应的一些规律,为重氮片选择合适的重氮盐及偶合剂提供科学依据,为理论研究提供重要参考资料。     

近年来邻叠氮萘醌型信息材料的研究动向

邻叠氮萘醌型信息记录材料是由光敏剂即邻叠氮萘醌磺酸酯、粘附剂即线型酚醛树脂或其它碱溶性高聚物与附加剂等组成的,或者由接有光敏基团(邻叠氮萘醌磺酰基)的碱溶性高聚物与附加剂等组成。这类材料一般称为正型感光胶或正型光刻胶。     

邻叠氮萘醌磺酸酯型光敏剂的合成及其性能的测试

邻叠氮萘醌磺酸酯型正性光刻胶(或光致抗蚀剂)具有如下特点:1.分辨率高,一般在1μ以下,即使涂胶较厚,也能得到较好的分辨率。2.所得图象逼真,边缘整齐,线条锐度好。     

抗蚀剂近年发展动态

前言自从聚乙烯醇肉桂酸酯、环化橡胶、邻叠氮醌类等光刻胶的相继问世,伴随着紫外光刻技术的发展,抗蚀剂的研制工作正日新月异。进入八十年代,超大规模集成电路、磁泡等器件要求分辨率达亚微米级,由此出现了 X-射线抗蚀剂、电子束抗蚀剂以及深紫外抗蚀剂。本文就它们的现状作些综述。     

JS—4正性光刻胶两重性的研究

在ＪＳ－４紫外正性光刻胶（光敏剂为２－叠氮－１萘醌－５－磺酸－双酚Ａ酯）中加入添加剂后，经过涂布，前烘，掩膜触曝光，加热，全面曝光，碱液显影及刻蚀等使用步骤，可得与掩膜上图案相反的图像即负像；若无加热及全面曝光步骤，则得正像。添加剂的类型对光刻胶的两重性具有重要作用。本文通过实验筛选出碳酸胍，硝酸胍，苯胺以及苯并咪唑等添加剂，可使ＪＳ－４正性光刻胶具有两重性，即可得正图像，也可得负图像。除苯胺外，     

重氮片光敏性与热稳定性的研究

本文研究了九种不同结构重氮盐组成的重氮片的光敏性、热稳定性以及两者之间的相互关系,研究了各种添加剂对重氮片光敏性和热稳定性的影响。试验以堂氮片光解和热解时吸收值降低的百分率(A%)来测试重氮片的光敏性和热稳定性。测试结果表明:组成重氮片的重氮盐结构不同与其光敏性与热稳定性有直接关系,而添加剂加入重氮片不会影响其光敏性,但对由同一结构重氮盐所组成的重氮片的光敏性有一定的影响。重氮盐芳环中在重氮基间位上引入烷氧基后,可以提高由该盐所组成的重氮片的光敏性,如在邻位上引入烷氧基后,可以提高相应重氮片的热稳定性。重氮片热稳定性的好坏与构成该重氮片的重氮盐的热分解温度的高低有着密切的关系。