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与常规等离子喷涂相比,低压等离子喷涂技术在真空或低压下进行等离子喷涂,可制备更低杂质、更高致密度、更高结合强度的涂层。介绍了常规等离子喷涂焰流速度高、工艺稳定性好、沉积效率高、可控性好的特点,详细阐述了低压等离子喷涂技术清洁、高速、长焰流、预热、电清理的工艺优势,说明了低压等离子喷涂技术在热障涂层、抗气蚀涂层、面向等离子体材料等功能性涂层制备上的应用,最后从完善相关理论、与其他技术联用、工艺在线可控、气氛压力更低等方面,以及在航空、航天、电子等领域的运用,对低压等离子喷涂技术的发展进行了展望。 相似文献
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王征辉 《中国新技术新产品》2011,(3):141-141
介绍图尔克PROFIBUS-DP总线系统在高炉过程控制的技术特点,描述了该总线系统在3200m3高炉控制系统中软硬件的应用,同时针对实际应用中需要注意的问题进行阐述。 相似文献
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