超大规模集成电路生产环境空气含尘浓度的预测

本文为了适应21世纪初期超大规模集成电路发展的需要,提出了预测空气含尘浓度的方法。建立了空气含尘浓度C和空气粒子最大允许值E之间的关系式,计算出和IC集成度相对应的圆片加工区的空气含尘浓度C值。     

洁净级别预测

集成电路的生产技术的发展日新月异,迅猛异常。 美国已制定出振兴半导体工业的技术发展计划。2000年的目标是开发成功0.12μm技术,生产出IG SRAM样品。 为了适应这种形势飞速发展的需要,如何确定洁净室的洁净级别将是我们所关心的问题之一。 有关集成电路存储器的部分技术数据列如表1。 从集成电路发展趋势来看 1.线宽越来越小,这就意味着被控制的粒子直径要求越来越小。被控制粒子直径一般按线宽的1/10考虑。