新型水处理剂低膦水解聚马来酸酐的合成

以马来酸酐(MA)、双氧水、次磷酸盐为原料,在催化剂的作用下,采用水溶液聚合法,合成出低膦水解聚马来酸酐(HPMA)。合成低膦HPMA的最佳工艺条件为:反应温度110~120℃,反应3 h,催化剂用量为0.05%时,得到固含量为50%的浅黄色透明液体低膦(含磷3%)水解聚马来酸酐。缓蚀阻垢性能研究结果表明,HPMA具有良好的缓蚀、阻垢性能,HPMA药剂浓度为3.0 mg/L时,阻垢率和缓蚀率分别为33.9%和39.38%。     

磷系水处理药剂的研究进展

综述了磷系水处理药剂的研究进展,分析了氨基三甲叉膦酸（ATMP）、羟基乙叉二膦酸（HEDP）、2-膦酸-1,2,4-三羧酸丁烷（PBTCA）、2-羟基膦酸基乙酸（HPA）、膦酰基羧酸（POCA）、聚环氧琥珀酸（PESA）和聚天冬氨酸（PASA）等水处理药剂的特点,论述了磷系水处理药剂在缓蚀阻垢中的重要性。