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采用溶剂热合成法合成了八种Mofs光催化材料.以La、Zr、Fe、Zn为金属中心,对苯二甲酸(H2BDC)、2-氨基对苯二甲酸(H2ATA)为有机配体.通过XRD、SEM、TEM、Uv-vis DRS、FTIR、莫特肖特基测试对光催化剂进行表征,考察了光催化剂的组成、晶型、形貌、禁带宽度、元素含量、氧化还原电势等性能,考察了可见光和紫外光辐照下光催化剂对苯酚的光催化氧化性能.结果 表明,使用10 mg的H2ATA-La在可见光照下降解20 mg/L的苯酚溶液,8h时降解率达97.45％. 相似文献
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选用吐温60、聚乙二醇4000与环氧树脂E-44反应合成了水性环氧树脂乳化剂WT6P4,再将其以相反转法乳化制备水性环氧树脂乳液WT6P4-E44。通过红外光谱证实了环氧基与醇羟基发生了反应,生成了醚键亲水基团,探讨了相反转过程的电导率的变化,研究了乳化剂用量、搅拌速度及反应温度对乳液粒径分布和稳定性的影响,采用差示扫描量热法研究WT6P4-E44的固化行为。结果表明：在乳化剂用量为16%,搅拌速度为600 r/min,相反转温度为65℃时的条件下,制得的乳液粒径最小为53 nm,且各项稳定性较好。通过外推法确定固化工艺条件为60℃1 h、100℃2 h以及150℃1 h。 相似文献
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采用溶剂热合成法合成了八种Mofs光催化材料.以La、Zr、Fe、Zn为金属中心,对苯二甲酸(H2BDC)、2-氨基对苯二甲酸(H2ATA)为有机配体.通过XRD、SEM、TEM、Uv-vis DRS、FTIR、莫特肖特基测试对光催化剂进行表征,考察了光催化剂的组成、晶型、形貌、禁带宽度、元素含量、氧化还原电势等性能,考察了可见光和紫外光辐照下光催化剂对苯酚的光催化氧化性能.结果 表明,使用10 mg的H2ATA-La在可见光照下降解20 mg/L的苯酚溶液,8h时降解率达97.45％. 相似文献
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目的 研究苯并三氮唑(BTA)、苯并咪唑(BZI)和2-巯基苯并噻唑(2-MBT)3种缓蚀剂对酸性蚀刻液中铜的蚀刻速率和蚀刻因子的影响及作用机理.方法 采用静态挂片失重法计算蚀刻速率和缓蚀效率,利用金相显微镜测试蚀刻因子.通过塔菲尔极化曲线,研究缓蚀剂分子对铜腐蚀的影响.运用密度泛函理论,计算BTA、BZI、2-MBT的全局和局部反应活性.使用Forcite模块中的COMPASS力场进行分子动力学计算,研究缓蚀剂分子在Cu层表面吸附过程中的能量变化.结果 缓蚀剂的加入,降低了铜的腐蚀速度,减缓了蚀刻速率,增大了蚀刻因子.实验结果显示,2-MBT存在时,缓蚀效率最大,铜的腐蚀速度最小,蚀刻因子最佳.全局反应活性分析表明,3种缓蚀剂分子对铜的缓蚀效率关系为2-MBT>BZI>BTA;局部反应活性分析表明,2-MBT的活性主要集中在2个S原子上,S(9)可以接受电子,形成反馈键,S(10)能够提供电子,形成配位键.分子动力学计算结果表明,BTA、BZI、2-MBT均能自发吸附在铜层表面,且在Cu(111)面的吸附能分别为–2927.04、–3033.94、–3097.58 kJ/mol,表明3种缓蚀剂分子均易吸附在铜层表面,进而在一定程度上抑制铜的腐蚀.结论 在酸性蚀刻液中加入缓蚀剂,能有效提高蚀刻因子.当缓蚀剂分子中的活性原子同时包含亲核中心和亲电中心时,效果更好. 相似文献
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目的 探究十二烷基硫酸钠(SDS)、十六烷基溴化吡啶(CPDB)和OP-103种表面活性剂在化学镀液中对镀镍过程的影响,改善PCB化学镀镍层的不均匀现象.方法 通过化学镀试验,对镀镍层的厚度变化进行研究.利用电化学分析测试,研究表面活性剂对化学镀镍腐蚀的影响.使用扫描电镜(SEM)对镀镍层表面微观形貌进行表征.运用Forcite模块中的COMPASS力场进行分子动力学计算,研究表面活性剂分子在镍层表面吸附过程中的能量变化.结果 通过化学镀试验,发现加入适量的表面活性剂能够增加镀镍层的厚度,SDS、CPDB和OP-10能够提高镀镍层的均匀性.电化学测试结果表明,3种表面活性剂与Cu-Ni表面吸附作用的强弱顺序为SDS>CPDB>OP-10.通过扫描电子显微镜测试,发现添加表面活性剂后,镀层表面平整性良好,颗粒分布和大小均匀,均匀性顺序为OP-10>CPDB>SDS,与镀速的变化呈负相关.分子动力学模拟计算结果表明,3种表面活性剂都能自发地吸附在镍表面,其温度波动和能量波动都在25 ps达到稳定,吸附稳定.OP-10、CPDB、SDS吸附模型作用能分别为–3338.61、–3681.28、–4158.18 kJ/mol.结论 在化学镀镍液中加入表面活性剂,可在一定程度上有效提高化学镀镍层的均匀性,并且提升镀镍速率.该研究为化学镀镍过程中表面活性剂的选择提供了理论基础. 相似文献
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