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选用十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为模板剂,以3-氨丙基三乙氧基硅烷(APTES)为氨基化硅烷化试剂,正硅酸四乙酯(TEOS)为硅源,均三甲苯(TMB)作为扩孔剂,在80℃下合成了具有氨基修饰的二氧化硅纳米粒子。通过在酸性醇溶液中回流去除模板获得氨基化的介孔二氧化硅(MSNsNH_2)。以MSNs-NH_2为引发剂,辛酸亚锡为催化剂,在高温、氮气氛围下通过丙交酯开环聚合生成表面聚乳酸(PLA)修饰的二氧化硅纳米粒子(PLA@MSNs)。实验通过傅里叶红外光谱、激光粒度仪等验证了纳米粒子的结构、粒径分布、Zeta电位,通过噻吩蓝(MTT)法证明了其细胞毒性较低。 相似文献
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