陶瓷表面化学镀Ni-P合金工艺的研究

陶瓷表面经化学镀镍处理后既可以保证陶瓷原有的机械物理性能,又可以使陶瓷具有导电、导热、耐蚀等性能.采用正交实验的方法,得出陶瓷表面化学镀镍的最佳工艺配方和条件.采用扫描电子显微镜观察镀层微观形貌,利用能谱仪分析其化学成分,通过热震实验测试镀层与陶瓷的结合力.结果表明:陶瓷表面镀层覆盖完整、均匀、致密,镀层与陶瓷结合良好...     

铝合金化学镀镍-磷合金的研究

铝合金的预处理是化学镀镍最为重要的一个环节。采用二次浸锌法对铝合金表面进行预处理。考察了浸锌过程中浸锌时间、浸锌温度、退锌时间等因素对沉积速率的影响。化学镀镍采用先碱镀再酸镀的方式,获得均匀、光亮的镀层,并讨论了主盐、还原剂、配位剂、pH值等因素对酸性化学镀镍沉积速率的影响,得到了最佳的工艺条件和镀液配方。制得的Ni-P合金镀层表面均匀、致密。     

Preparation of Copper Indium Sulfide Film by Electro-Deposition Method

采用电沉积的方法制备铜铟硫（CuInS2, CIS2）薄膜,紫外可见光谱仪测试结果表明电沉积制备的CIS2薄膜的禁带宽度为1.5 eV。X射线光电子能谱（XPS）分析表明,薄膜中的铜、铟、硫元素的价态分别为+1, +3和-2。采用线性伏安扫描测试了薄膜的光电性质,在黑暗和光照的条件下,I-V曲线斜率变化率为0.6×10-3。运用DMol3和CASTEP模块计算了电沉积制备的铜铟硫薄膜的禁带宽度,其数值为1.5 eV。通过Materials Studio建立了电沉积制备出的铜铟硫薄膜的结构和XRD模拟谱图,与实验结果一致     

碱性化学沉积镍-磷合金镀层耐蚀性的研究

采用正交实验对柠檬酸钠体系碱性镀镍液的组成及工艺条件进行优化,获得具有良好耐蚀性的镀层,并分析各组分的质量浓度对饺层耐蚀性能的影响。采用SEM观察镀层的表面微观形貌,利用电化学方法（Tafel曲线）和差重法评价镀层的耐蚀性能。结果表明:最佳工艺得到的镀层均匀、细致,镀液中NaH₂PO₂的质量浓度对镀层的耐蚀性能影响较大。     

电沉积制备铜系薄膜太阳能电池吸收层的研究现状

介绍了一步沉积法和多步沉积法制备铜铟硒(CISe)、铜铟硫(CIS)、铜铟镓硒(CIGS)、铜锌锡硫(CZTS)等铜系薄膜太阳能电池吸收层的电沉积技术,并对其未来发展进行了展望。     

高分子材料的金属化

由于金属化后的高分子材料同时具有高分子材料和金属材料的特性,使得高分子材料金属化在各个领域得到广泛应用。综述了高分子材料金属化的几种常见工艺,介绍了各种工艺的特点和镀层性能及其应用。其中,化学还原法由于其工艺简单,获得的镀层与基体结合力强,而越来越受到人们的关注,今后必将成为高分子材料金属化工艺的主流。