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通过正交试验方法,以沉积速率和镀层外观为指标,探讨了电流密度、电沉积时间、镀液中稀土含量、镀液温度4个因素对沉积速度的影响规律,初步确定合金镀层的最佳制备工艺条件为：J=5A／dm^2、t=50min、θ=50-60℃、p（CeCl3）=0.3g／L。利用扫描电镜、塔菲尔睦线等手段测试了镀层的形貌、耐蚀性和抗氧化性。结果表明,在添加CeCl,条件下沉积获得的Ni—Fe合金镀层的抗高温氧化性和耐蚀性能均比没有添加CeCl3的好,表明Ce（Ⅲ）起到改善电沉积效果的作用。 相似文献
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通过正交试验方法,以沉积速率和镀层外观为指标,探讨了电流密度、电沉积时间、镀液中稀土含量、镀液温度4个因素对沉积速度的影响规律,初步确定合金镀层的最佳制备工艺条件为:J=5A/dm2、t=50min、θ=50～60℃、p(CeCl3)=0.3 g/L.利用扫描电镜,塔菲尔曲线等手段测试了镀层的形貌、耐蚀性和抗氧化性.结果表明,在添加CeCl3条件下沉积获得的Ni-Fe合金镀层的抗高温氧化性和耐蚀性能均比没有添加CeCl3的好,表明Ce(Ⅲ)起到改善电沉积效果的作用. 相似文献
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