四氨基镍酞菁在金电极上成膜过程的研究

采用循环伏安法（CV）和石英晶体微天平技术（QCM）对四氨基镍酞菁（NiTAPc）在金电极上的聚合成膜过程进行了研究,讨论了扫描速率、溶剂、支持电解质及单体浓度对其成膜过程的影响,考察了该聚合膜在无单体电解质溶液中的氧化还原行为及稳定性。借助电化学石英晶体微天平(QCM)重点讨论了过程溶液中离子在膜中传输的机理。