对于供电企业电力营销管理总体策略的几点思考

随着经济的快速发展和和谐社会的构建,人们的生活水平越来越高,对电力资源的需求量也越来越大,由此可见,电力行业的发展前景广阔。在新环境下,如何保证企业的快速发展,从而满足人们对电能的需求,成为当前供电企业面临的重要问题。重点分析了供电企业电力营销管理的总体策略。     

浅析供电营销服务精益化管理

目前,供电企业受到经济环境、市场需求、社会需求的影响,造成了供电企业的核心业务--供电营销业务的种种困难,面临着激烈的挑战。为此,供电企业的供电营销服务采用精益化的管理去解决供电企业所面临的困难。本文对供电营销服务精益化的管理策略进行了详细的探究。     

磁控溅射AZO工艺中沉积温度的研究

在采用磁控溅射制备AZO薄膜的过程中,AZO薄膜的光电性能取决于镀膜过程中的各种工艺参数,包括:溅射气压、沉积温度、溅射功率、靶基距等。本文主要研究在固定其它工艺参数不变的情况下,通过改变玻璃基板沉积温度在200℃、250℃、300℃、350℃、400℃、450℃、500℃的情况下分别制备AZO薄膜,通过分析研究玻璃基板沉积温度变化对制备AZO薄膜光电性能及结构的影响,筛选出制备高质量AZO膜的最佳沉积温度。     

磁控溅射法制备氮化硅薄膜的耐磨性研究

氮化硅(Si_3N_4)薄膜具有化学稳定性高、电阻率高、绝缘性好、光学性能良好(其折射率在2.0左右)等特性。同时氮化硅膜是一种很好的耐磨材料,其铅笔硬度理论上可以达到9H以上,通过在其它的镀膜产品上加镀一层氮化硅膜,可有效改善原有镀膜产品的耐磨性,避免膜层出现膜面划伤而造成的外观不良。本文主要研究采用中频磁控反应溅射制备氮化硅薄膜,氮化硅薄膜的耐磨性能取决于镀膜过程中的各种工艺参数,包括:N_2/Ar比、沉积温度、溅射功率、膜层厚度2等。通过对不同工艺条件下镀制的氮化硅薄膜的耐磨性及膜层结构进行对比,筛选出具有优良耐磨性能的氮化硅薄膜的工艺参数。     

沉积温度对AZO薄膜性能的影响

在采用直流磁控溅射制备AZO(Aluminum Doped Zinc Oxide,掺铝氧化锌)薄膜的过程中,AZO薄膜的光电性能取决于镀膜过程中的各种工艺参数,包括溅射气压、沉积温度、溅射功率和靶基距等。本文主要研究在固定其它工艺参数不变的情况下,通过改变沉积温度在不同的温度下分别制备AZO薄膜,利用SEM、X射线衍射仪等测试不同AZO薄膜的微观结构,并分析研究不同沉积温度下制备AZO薄膜光电性能及结构的变化特性,以筛选出制备高质量AZO膜的最佳沉积温度。     

低电阻率高透过率AZO薄膜的探讨与制备

随着触控技术在电子显示领域的应用,传统透明导电氧化物ITO的需求量逐年提高。由于铟储量有限、价格昂贵,且属重金属元素,环境友好度低,而同样属于透明导电氧化物的AZO,也具有优异的光电性能,且资源丰富、价格低廉,无污染。作为ITO的一种替代材料,正在成为研究的热点。本文主要探讨与制备高透过率和低电阻率的AZO。