对浑河沈阳段内各类穿跨河构造物的探讨

本文介绍了浑河沈阳段内各类穿跨河构造物保护区的现状、存在的问题,并提出了具体对策。     

磁控溅射电致变色非晶态氧化钨薄膜

利用平面磁控反应溅射在具有透明导电膜的玻璃基片上沉积氧化钨膜层。Ｘ射线衍射分析结果表明，基片在室温状态下得到的膜呈非晶态。以０．２Ｎ浓度的ＨＣｌ为电解液，用电化学方法研究了Ｈ＋注入及抽出后氧化钨膜光学性能的变化及这种变化与膜的制备参数之间的关系。获得了沉积氧化钨膜近于最佳的工艺条件。在纯氧气氛下，溅射功率密度１．２Ｗ／ｃｍ２，溅射气体压强１．３Ｐａ时，制备的非晶态氧化钨膜，在５０次电化学循环后，漂白态与着色态的可见光透射率之差约为０．５７，其电化学循环的变色寿命也长。光电子能谱（ＸＰＳ）分析表明，Ｈ＋注入后着色态膜内出现了Ｗ５＋、Ｗ４＋。对电致变色机理也作了讨论。     

环保型阻垢剂PESA的合成及表征

以马来酸酐为原料,合成聚环氧琥珀酸(PESA)。分析了催化剂用量、环化pH值、环化温度、聚合温度和聚合时间对PESA阻CaSO_4垢性能的影响,得到PESA的最佳合成条件为催化剂用量2 g,环化pH值为4,环化温度60℃,聚合温度90℃,聚合时间2 h。对在最佳工艺条件下合成的产品进行了阻垢性能评价,当PESA加量为3 mg/L时,对硫酸钙的阻垢率达98.2%。     

烯烃加成法合成烷基酚聚氧乙烯醚磺酸盐

实验以烯烃加成法,经烯丙基化、磺化二步反应合成了烷基酚聚氧乙烯醚磺酸盐.在烯丙基化过程中,分别以十六烷基三甲基溴化铵和聚乙二醇为催化剂,得到产率不同的中间体烯丙基醚;在磺化过程中,以烯烃加成反应,以亚硫酸氢盐-亚硫酸盐为磺化剂,硝酸盐为催化剂,或以添加产物为催化剂,得到产率不同的磺酸盐.讨论了二步反应中使用不同催化剂产...     

基于ASPEN PLUS的有机硅共沸物分离工艺模拟与研究

研究了采用双塔连续酯化分离法分离有机硅共沸物的生产工艺,并采用ASPEN PLUS过程模拟软件对酯化分离法的工艺过程进行模拟计算。对有机硅共沸物酯化分离这一反应体系的汽液平衡过程,采用ASPEN PLUS的DSTWU、RadFrac分离单元模块进行模拟,热力学方法选用NRTL模型,计算结果令人满意。对酯化法分离有机硅共沸物的工艺过程进行模拟计算,得到的流程工艺条件为:精馏Ⅰ塔理论塔板数58块,进料板数26,回流比22.8,塔顶温度41℃,塔顶压力101 kPa;反应精馏Ⅱ塔理论塔板数10块,进料板数5,回流比1.9,塔顶温度51℃,塔顶压力101 kPa,塔径为900 mm,最大负荷分率0.71,最大负荷因子0.05 m/s;填料高度6 m时,塔压降2 000 kPa,选用填料表面积121 m2/m3,填料孔隙率0.73。     

结晶态WO3膜电致变色性能及机理

磁控溅射沉积获得的非晶态ＷＯ３膜在空气中分别加热２００℃，２５０℃，３００℃，３５０℃及４００℃，并保温３０ｍｉｎ进行热处理。随着热处理温度的提高，非晶态ＷＯ３膜的电致变色性能下降。当然热处理温度高于３５０℃时，非晶态转变成结晶态。着色的结晶态ＷＯ３膜在可见光谱范围（０．３８￣０．７８μｍ）及太阳光谱范围（０．３４￣２．５μｍ）内吸收调制能力低于非晶态ＷＯ３膜，但是结晶态ＷＯ３膜在近红外区有较强的     

从施工角度看我国第一个五年計划的水电站建設

在我国第一个五年計划期间,建成和正在进行施工的水力发电站計有22座。已建成发电的有丰滿、狮子灘、上犹江、官厅、古田、上硐、石龙壩、腏娇凇u拉泊等九座水电站。这九座水电站裝机总容量为519,400瓩,自1953年起陆續投入生产,为五年计划投入生产总容量的110%。正在进行施工的有三     

烯烃加成法合成脂肪醇聚氧乙烯醚磺酸盐

以脂肪醇聚氧乙烯醚、氯丙烯为原料,经烯烃加成法进行烯丙基化反应及磺化反应合成脂肪醇聚氧乙烯醚磺酸盐。烯丙基化步骤中,以聚乙二醇作相转移催化剂,得到中间体烯丙基醚产率为94.4%;在磺化步骤中,以亚硫酸氢盐-亚硫酸盐作磺化剂,联合硝酸盐+产物作催化剂,得到磺酸盐产品产率为85.0%。其优化工艺为:烯丙基化步骤反应温度120℃,n(氯丙烯)∶n(聚氧乙烯醚)=2.0,反应时间6h;磺化步骤反应温度应选择在95～97℃(沸腾),n(磺化剂)∶n(烯丙基醚)=1.8,反应时间8h。     

Ti-O薄膜电致变色性能

像光致变色、热致变色材料一样，电致变色材料是一种功能性材料。对电致变色材料施以电场，经过电化学过程，便能产生一稳定可逆的光吸收或反射变化，在外表性能上则表现为颜色及透明度的变化。电致变色材料必须同时具备电子和离子导电能力，而且分别在阴极或阳极装置中呈现电变色现象。一般基本的电致变色器件包括：两层透明导电膜以驱动离子转移、一层主动电变色膜、一层离于导体膜和一层离子存贮膜。这种三明治式的组成允许在主动电变色层和离子存贮层之间发生循环的可逆化学反应，同时伴随有离子从离子存贮层通过离子导体注入主动电变色…     

结晶态WO_3膜电致变色性能及机理

磁控溅射沉积获得的非晶态WO3膜在空气中分别加热200℃，250℃，300℃，350℃及400℃，并保温30min进行热处理。随着热处理温度的提高，非晶态WO3膜的电致变色性能下降。当热处理温度高于350℃时，非晶态转变成结晶态。着色的结晶态WO3膜在可见光谱范围（0．38～0．78μm）及太阳光谱范围（0．34～2．5μm）内吸收调制能力低于非晶态WO3膜，但是结晶态WO3膜在近红外区有较强的反射调制。基片加温到220℃以上沉积得到的WO3膜均为结晶态。这种结晶态膜的电致变色性能优于空气中热处理得到的结晶态WO3膜，但两种膜的变色性能与各自的制备温度没有明显的依赖关系。在相同的电化学测试参数条件下，结晶的WO3膜的变色响应速率低于非晶态膜。利用X射线光电子能谱（XPS）及X射线衍射分析判定，结晶态WO3膜在HCl电解液中施加电信号发生着色／退色是由于H＋的注入／抽取所致，在着色的膜中存在着W6＋，W5＋及W4＋离子。