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采用溶胶-凝胶法在单晶硅上制备了钴铁氧体薄膜。在不同温度下对样品进行了退火处理,通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和振动样品磁强计(VSM)等分析了样品的物相组成、晶粒大小、表面形貌、样品厚度及不同温度下的磁性能。结果表明:制备出的CoFe2O4薄膜为尖晶石结构,表面比较致密,平均晶粒尺寸20~50 nm。在173~400 K范围内,随着温度的升高,钴铁氧体薄膜的矫顽磁场逐步减小,而磁矩是先增加后减少,并对产生的原因进行了分析。 相似文献
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由于在细晶Mo-Si-B合金中制备双峰分布的α-Mo晶粒能够在不显著降低合金强度的前提下大幅提高其断裂韧性,为了加强双峰结构合金的表面防护,同时保持其优异的力学性能,通过包埋渗在合金表面上制备了一个具有多层结构(MoSi2,Mo5Si3和Mo5SiB2/MoB)的涂层。研究结果表明,相比在细晶结构基体上制备的涂层,双峰结构基体上的涂层表面较为粗糙,并且也表现出双峰分布的微观组织。此外,覆盖涂层后的双峰结构合金的断裂韧性依然良好,并且分布在涂层中的La2O3颗粒能够增韧涂层。具有涂层的双峰结构合金在1100~1300 ℃下展现出了卓越的抗氧化性,这是由于氧化过程中在涂层表面快速形成了一个薄且能自愈合的SiO2-B2O3膜。随着氧化温度升高,SiO2-B2O3膜的粘度降低,使得SiO2-B2O3膜的厚度和氧化产物Mo5Si3均增加。并且,升高温度促进了Si和B的互扩散,加速了Mo5Si3和Mo5SiB2/MoB层的增长。在1300 ℃下,由于单峰结构的MoSi2涂层拥有更多的晶界,使得含涂层的细晶合金相比含涂层的双峰结构合金表现出更多的氧化增重。 相似文献
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采用粉末冶金技术制备了不同Si含量(0,0.1,0.3wt%Si)的Mo-Si合金板材,并在25,300,800和1200℃下进行了静拉伸试验,研究了试验温度对Mo-Si合金板材力学性能、断裂方式及微观组织的影响。结果表明:随试验温度升高,纯钼及Mo-Si合金板材强度明显下降,但延伸率以300℃为分界点呈现出先升后降的趋势。室温下Mo-Si合金的断裂方式为穿晶解理断裂,在300及800℃时主要为韧窝延性断裂,而1200℃时为沿晶断裂。对Mo-Si合金强化机制的分析表明,室温下的强化主要来源于弥散强化和固溶强化,而在高温时,固溶作用明显减弱,颗粒弥散和粗化晶粒为主要的强化手段。 相似文献
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Sol-gel preparation of La-doped bismuth ferrite thin film and its low-temperature ferromagnetic and ferroelectric properties 总被引:1,自引:0,他引:1
Bi0.85La0.15FeO3 thin film was prepared on ATO glass substrates by sol-gel technique. The effect of La doping on phase structure, film surface quality, ion valence, and ferroelectric/magnetic properties of Bi0.85La0.15FeO3 film were investigated. La dop-ing suppressed the formation of impurity phases and the transition of Fe3+ to Fe2+ ions at room temperature. Compared with the un-doped BiFeO3, La-doping also increased the average grain size and the film density, which resulted in the decrease of film leakage current density. The remanent polarization and saturation magnetization were enhanced significantly by La doping. The remanent polarization of Bi0.85La0.15FeO3 films gradually decreased while saturation magnetization increased with the decrease of measuring temperature within a range from 50 to 300 K. 相似文献
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